हायड्रॉक्सीथिल मिथाइल सेल्युलोज एचईएमसीचा वापर आणि तयारी

हायड्रोक्सीथिल मिथाइल सेल्युलोज HEMC हे कोलॉइड संरक्षक एजंट, इमल्सिफायर आणि डिस्पर्संट म्हणून वापरले जाऊ शकते कारण ते जलीय द्रावणात पृष्ठभागाच्या सक्रिय कार्यामुळे.त्याच्या अनुप्रयोगाचे उदाहरण खालीलप्रमाणे आहे: सिमेंटच्या गुणधर्मांवर हायड्रॉक्सीथिल मिथाइल सेल्युलोजचा प्रभाव.हायड्रोक्सीथिल मेथिलसेल्युलोज एक गंधहीन, चवहीन, विषारी पांढरी पावडर आहे जी थंड पाण्यात विरघळते आणि एक स्पष्ट, चिकट द्रावण तयार करते.त्यात घट्ट करणे, बांधणे, विखुरणे, इमल्सीफायिंग, फिल्म-फॉर्मिंग, सस्पेंडिंग, शोषक, जेलिंग, पृष्ठभाग-सक्रिय, ओलावा टिकवून ठेवणे आणि कोलोइड्सचे संरक्षण करण्याचे गुणधर्म आहेत.जलीय द्रावणाच्या पृष्ठभागाच्या सक्रिय कार्यामुळे, ते कोलॉइड संरक्षणात्मक एजंट, इमल्सीफायर आणि डिस्पर्संट म्हणून वापरले जाऊ शकते.हायड्रोक्सीथिल मिथाइल सेल्युलोज जलीय द्रावणामध्ये चांगली हायड्रोफिलिसिटी असते आणि ते उच्च-कार्यक्षमतेचे पाणी टिकवून ठेवणारे घटक आहे.

तयार करणे
हायड्रॉक्सीथिल मिथाइल सेल्युलोज तयार करण्याची एक पद्धत, या पद्धतीमध्ये कच्चा माल म्हणून परिष्कृत कापूस आणि हायड्रॉक्सीथिल मिथाइल सेल्युलोज तयार करण्यासाठी इथिलीन ऑक्साईड इथरीफायिंग एजंट म्हणून वापरणे समाविष्ट आहे.हायड्रॉक्सीथिल मिथाइल सेल्युलोज तयार करण्यासाठी कच्चा माल वजनानुसार भागांमध्ये तयार केला जातो: द्रावक म्हणून टोल्यूनिन आणि आयसोप्रोपॅनॉलच्या मिश्रणाचे 700-800 भाग, पाण्याचे 30-40 भाग, सोडियम हायड्रॉक्साईडचे 70-80 भाग, 80-85 भाग. परिष्कृत कापूस, ऑक्सिथेनचे 20-28 भाग, मिथाइल क्लोराईडचे 80-90 भाग आणि ग्लेशियल ऍसिटिक ऍसिडचे 16-19 भाग;विशिष्ट पायऱ्या आहेत:

पहिली पायरी, अणुभट्टीमध्ये, टोल्युइन आणि आयसोप्रोपॅनॉल मिश्रण, पाणी आणि सोडियम हायड्रॉक्साईड घाला, 60-80 ℃ पर्यंत तापमान वाढवा, 20-40 मिनिटे उष्मायन करा;

दुसरी पायरी, क्षारीकरण: वरील सामग्री 30-50 डिग्री सेल्सियस पर्यंत थंड करा, परिष्कृत कापूस घाला, टोल्यूनिन आणि आयसोप्रोपॅनॉलचे मिश्रण सॉल्व्हेंटसह फवारणी करा, 0.006Mpa पर्यंत खाली करा, 3 प्रतिस्थापनांसाठी नायट्रोजन भरा आणि क्षार बदलल्यानंतर क्षारीकरण करा. अटी खालीलप्रमाणे आहेत: क्षारीकरण वेळ 2 तास आहे, आणि क्षारीकरण तापमान 30°C ते 50°C आहे;

तिसरी पायरी, इथरिफिकेशन: क्षारीकरण पूर्ण झाले, अणुभट्टी 0.05～0.07MPa वर रिकामी केली जाते, इथिलीन ऑक्साईड आणि मिथाइल क्लोराईड जोडले जातात, आणि 30-50 मिनिटे ठेवले जातात;इथरिफिकेशनचा पहिला टप्पा: 40～60℃, 1.0～2.0 तास, दाब 0.150.3Mpa दरम्यान नियंत्रित केला जातो;इथरिफिकेशनचा दुसरा टप्पा: 60～90℃, 2.0～2.5 तास, दाब 0.40.8Mpa दरम्यान नियंत्रित केला जातो;

4 था पायरी, तटस्थीकरण: वर्षाव केटलमध्ये आगाऊ मीटर केलेले ग्लेशियल ऍसिटिक ऍसिड जोडा, तटस्थीकरणासाठी इथरिफाइड सामग्रीमध्ये दाबा, पर्जन्य पूर्ण करण्यासाठी 75～80 ℃ गरम करा, तापमान 102 ℃ पर्यंत वाढते आणि pH मूल्य शोधणे आहे. 68 पर्जन्य पूर्ण झाल्यावर, पर्जन्य टाकी 90℃～100℃ वर रिव्हर्स ऑस्मोसिस यंत्राद्वारे प्रक्रिया केलेल्या नळाच्या पाण्याने भरली जाते;

पाचवी पायरी, सेंट्रीफ्यूगल वॉशिंग: चौथ्या पायरीतील सामग्री आडव्या स्क्रू सेंट्रीफ्यूजद्वारे सेंट्रीफ्यूज केली जाते आणि वेगळे केलेले साहित्य आगाऊ गरम पाण्याने भरलेल्या वॉशिंग केटलमध्ये हस्तांतरित केले जाते आणि सामग्री धुतली जाते;

सहावी पायरी, सेंट्रीफ्यूगल ड्रायिंग: धुतलेली सामग्री क्षैतिज स्क्रू सेंट्रीफ्यूजद्वारे ड्रायरमध्ये नेली जाते, सामग्री 150-170 डिग्री सेल्सिअस तापमानात वाळवली जाते आणि वाळलेली सामग्री पल्व्हराइज आणि पॅक केली जाते.

सध्याच्या सेल्युलोज इथर उत्पादन तंत्रज्ञानाच्या तुलनेत, सध्याचा शोध हायड्रॉक्सीथिल मिथाइल सेल्युलोज तयार करण्यासाठी इथिलीन ऑक्साईडचा इथरीफायिंग एजंट म्हणून स्वीकार करतो आणि त्यात हायड्रॉक्सीथिल गट, चांगली स्निग्धता स्थिरता आणि दीर्घकालीन स्टोरेज दरम्यान बुरशी प्रतिरोधक क्षमता असल्यामुळे त्यात चांगली बुरशीविरोधी क्षमता आहे.इतर सेल्युलोज इथरऐवजी वापरले जाऊ शकते.