ಸಲ್ಫೋಅಲುಮಿನೇಟ್ ಸಿಮೆಂಟ್ ಪೇಸ್ಟ್‌ನ ನೀರಿನ ಘಟಕಗಳು ಮತ್ತು ಜಲಸಂಚಯನ ಉತ್ಪನ್ನಗಳ ವಿಕಾಸದ ಮೇಲೆ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳ ಪರಿಣಾಮಗಳು

ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಮಾರ್ಪಡಿಸಿದ ಸಲ್ಫೋಅಲುಮಿನೇಟ್ ಸಿಮೆಂಟ್ (CSA) ಸ್ಲರಿಯಲ್ಲಿನ ನೀರಿನ ಘಟಕಗಳು ಮತ್ತು ಮೈಕ್ರೋಸ್ಟ್ರಕ್ಚರ್ ವಿಕಸನವನ್ನು ಕಡಿಮೆ-ಕ್ಷೇತ್ರದ ನ್ಯೂಕ್ಲಿಯರ್ ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟಿಕ್ ರೆಸೋನೆನ್ಸ್ ಮತ್ತು ಥರ್ಮಲ್ ವಿಶ್ಲೇಷಕದಿಂದ ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಲಾಗಿದೆ.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಅನ್ನು ಸೇರಿಸಿದ ನಂತರ, ಇದು ಫ್ಲೋಕ್ಯುಲೇಷನ್ ರಚನೆಗಳ ನಡುವೆ ನೀರನ್ನು ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ ಎಂದು ಫಲಿತಾಂಶಗಳು ತೋರಿಸಿವೆ, ಇದು ಟ್ರಾನ್ಸ್ವರ್ಸ್ ರಿಲ್ಯಾಕ್ಸೇಶನ್ ಟೈಮ್ (ಟಿ 2) ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರಮ್ನಲ್ಲಿ ಮೂರನೇ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರವಾಗಿ ನಿರೂಪಿಸಲ್ಪಟ್ಟಿದೆ ಮತ್ತು ಆಡ್ಸರ್ಬ್ಡ್ ನೀರಿನ ಪ್ರಮಾಣವು ಡೋಸೇಜ್ನೊಂದಿಗೆ ಧನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಪರಸ್ಪರ ಸಂಬಂಧ ಹೊಂದಿದೆ.ಇದರ ಜೊತೆಯಲ್ಲಿ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ CSA ಫ್ಲಾಕ್ಸ್‌ನ ಆಂತರಿಕ ಮತ್ತು ಅಂತರ-ಫ್ಲಾಕ್ ರಚನೆಗಳ ನಡುವಿನ ನೀರಿನ ವಿನಿಮಯವನ್ನು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಸುಗಮಗೊಳಿಸಿತು.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಸೇರ್ಪಡೆಯು ಸಲ್ಫೋಅಲುಮಿನೇಟ್ ಸಿಮೆಂಟ್ನ ಜಲಸಂಚಯನ ಉತ್ಪನ್ನಗಳ ವಿಧಗಳ ಮೇಲೆ ಯಾವುದೇ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುವುದಿಲ್ಲವಾದರೂ, ಇದು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ವಯಸ್ಸಿನ ಜಲಸಂಚಯನ ಉತ್ಪನ್ನಗಳ ಪ್ರಮಾಣವನ್ನು ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ.

ಪ್ರಮುಖ ಪದಗಳು:ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್;ಸಲ್ಫೋಅಲ್ಯುಮಿನೇಟ್ ಸಿಮೆಂಟ್;ನೀರು;ಜಲಸಂಚಯನ ಉತ್ಪನ್ನಗಳು

0,ಮುನ್ನುಡಿ

ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್, ಇದು ನೈಸರ್ಗಿಕ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್‌ನಿಂದ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳ ಸರಣಿಯ ಮೂಲಕ ಸಂಸ್ಕರಿಸಲ್ಪಡುತ್ತದೆ, ಇದು ನವೀಕರಿಸಬಹುದಾದ ಮತ್ತು ಹಸಿರು ರಾಸಾಯನಿಕ ಮಿಶ್ರಣವಾಗಿದೆ.ಮೀಥೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ (MC), ಈಥೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ (HEC), ಮತ್ತು ಹೈಡ್ರಾಕ್ಸಿಥೈಲ್ಮೆಥೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ (HEMC) ನಂತಹ ಸಾಮಾನ್ಯ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳನ್ನು ಔಷಧ, ನಿರ್ಮಾಣ ಮತ್ತು ಇತರ ಕೈಗಾರಿಕೆಗಳಲ್ಲಿ ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.HEMC ಅನ್ನು ಉದಾಹರಣೆಯಾಗಿ ತೆಗೆದುಕೊಂಡರೆ, ಇದು ಪೋರ್ಟ್‌ಲ್ಯಾಂಡ್ ಸಿಮೆಂಟ್‌ನ ನೀರಿನ ಧಾರಣ ಮತ್ತು ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಸಿಮೆಂಟ್ ಅನ್ನು ಹೊಂದಿಸುವುದನ್ನು ವಿಳಂಬಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ.ಸೂಕ್ಷ್ಮ ಮಟ್ಟದಲ್ಲಿ, HEMC ಸಿಮೆಂಟ್ ಪೇಸ್ಟ್‌ನ ಸೂಕ್ಷ್ಮ ರಚನೆ ಮತ್ತು ರಂಧ್ರ ರಚನೆಯ ಮೇಲೆ ಗಮನಾರ್ಹ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಬೀರುತ್ತದೆ.ಉದಾಹರಣೆಗೆ, ಜಲಸಂಚಯನ ಉತ್ಪನ್ನ ಎಟ್ರಿಂಗೈಟ್ (AFt) ಚಿಕ್ಕ ರಾಡ್-ಆಕಾರದ ಸಾಧ್ಯತೆಯಿದೆ ಮತ್ತು ಅದರ ಆಕಾರ ಅನುಪಾತವು ಕಡಿಮೆಯಾಗಿದೆ;ಅದೇ ಸಮಯದಲ್ಲಿ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಸಂಖ್ಯೆಯ ಮುಚ್ಚಿದ ರಂಧ್ರಗಳನ್ನು ಸಿಮೆಂಟ್ ಪೇಸ್ಟ್ಗೆ ಪರಿಚಯಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಸಂವಹನ ರಂಧ್ರಗಳ ಸಂಖ್ಯೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ.

ಸಿಮೆಂಟ್-ಆಧಾರಿತ ವಸ್ತುಗಳ ಮೇಲೆ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳ ಪ್ರಭಾವದ ಕುರಿತು ಅಸ್ತಿತ್ವದಲ್ಲಿರುವ ಹೆಚ್ಚಿನ ಅಧ್ಯಯನಗಳು ಪೋರ್ಟ್ಲ್ಯಾಂಡ್ ಸಿಮೆಂಟ್ ಮೇಲೆ ಕೇಂದ್ರೀಕರಿಸುತ್ತವೆ.ಸಲ್ಫೋಅಲುಮಿನೇಟ್ ಸಿಮೆಂಟ್ (CSA) 20 ನೇ ಶತಮಾನದಲ್ಲಿ ನನ್ನ ದೇಶದಲ್ಲಿ ಸ್ವತಂತ್ರವಾಗಿ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಿದ ಕಡಿಮೆ-ಇಂಗಾಲದ ಸಿಮೆಂಟ್ ಆಗಿದೆ, ಇದರಲ್ಲಿ ಜಲರಹಿತ ಕ್ಯಾಲ್ಸಿಯಂ ಸಲ್ಫೋಅಲುಮಿನೇಟ್ ಮುಖ್ಯ ಖನಿಜವಾಗಿದೆ.ಜಲಸಂಚಯನದ ನಂತರ ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರಮಾಣದ AFt ಅನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಬಹುದಾದ್ದರಿಂದ, CSA ಆರಂಭಿಕ ಶಕ್ತಿ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಅಗ್ರಾಹ್ಯತೆ ಮತ್ತು ತುಕ್ಕು ನಿರೋಧಕತೆಯ ಅನುಕೂಲಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಮತ್ತು ಕಾಂಕ್ರೀಟ್ 3D ಮುದ್ರಣ, ಸಾಗರ ಎಂಜಿನಿಯರಿಂಗ್ ನಿರ್ಮಾಣ ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ ತಾಪಮಾನದ ಪರಿಸರದಲ್ಲಿ ತ್ವರಿತ ದುರಸ್ತಿ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಲ್ಲಿ ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ. .ಇತ್ತೀಚಿನ ವರ್ಷಗಳಲ್ಲಿ, ಲಿ ಜಿಯಾನ್ ಮತ್ತು ಇತರರು.ಸಂಕುಚಿತ ಶಕ್ತಿ ಮತ್ತು ಆರ್ದ್ರ ಸಾಂದ್ರತೆಯ ದೃಷ್ಟಿಕೋನದಿಂದ CSA ಮಾರ್ಟರ್ ಮೇಲೆ HEMC ಯ ಪ್ರಭಾವವನ್ನು ವಿಶ್ಲೇಷಿಸಲಾಗಿದೆ;ವು ಕೈ ಮತ್ತು ಇತರರು.CSA ಸಿಮೆಂಟ್‌ನ ಆರಂಭಿಕ ಜಲಸಂಚಯನ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಮೇಲೆ HEMC ಯ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಿದೆ, ಆದರೆ ಮಾರ್ಪಡಿಸಿದ CSA ಸಿಮೆಂಟ್‌ನಲ್ಲಿನ ನೀರು ಘಟಕಗಳ ವಿಕಾಸದ ನಿಯಮ ಮತ್ತು ಸ್ಲರಿ ಸಂಯೋಜನೆಯು ತಿಳಿದಿಲ್ಲ.ಇದರ ಆಧಾರದ ಮೇಲೆ, ಈ ಕೆಲಸವು ಕಡಿಮೆ-ಕ್ಷೇತ್ರದ ನ್ಯೂಕ್ಲಿಯರ್ ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟಿಕ್ ರೆಸೋನೆನ್ಸ್ ಉಪಕರಣವನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು HEMC ಅನ್ನು ಸೇರಿಸುವ ಮೊದಲು ಮತ್ತು ನಂತರ CSA ಸಿಮೆಂಟ್ ಸ್ಲರಿಯಲ್ಲಿ ಅಡ್ಡಾದಿಡ್ಡಿ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಸಮಯದ (T2) ವಿತರಣೆಯನ್ನು ಕೇಂದ್ರೀಕರಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ನೀರಿನ ವಲಸೆ ಮತ್ತು ಬದಲಾವಣೆಯ ನಿಯಮವನ್ನು ಮತ್ತಷ್ಟು ವಿಶ್ಲೇಷಿಸುತ್ತದೆ. ಸ್ಲರಿ.ಸಿಮೆಂಟ್ ಪೇಸ್ಟ್ನ ಸಂಯೋಜನೆಯ ಬದಲಾವಣೆಯನ್ನು ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಲಾಗಿದೆ.

1. ಪ್ರಯೋಗ

1.1 ಕಚ್ಚಾ ವಸ್ತುಗಳು

ವಾಣಿಜ್ಯಿಕವಾಗಿ ಲಭ್ಯವಿರುವ ಎರಡು ಸಲ್ಫೋಅಲುಮಿನೇಟ್ ಸಿಮೆಂಟ್‌ಗಳನ್ನು ಬಳಸಲಾಯಿತು, ಇದನ್ನು CSA1 ಮತ್ತು CSA2 ಎಂದು ಸೂಚಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, 0.5% ಕ್ಕಿಂತ ಕಡಿಮೆಯಿರುವ ದಹನದ (LOI) ನಷ್ಟದೊಂದಿಗೆ (ಮಾಸ್ ಫ್ರಾಕ್ಷನ್).

ಮೂರು ವಿಭಿನ್ನ ಹೈಡ್ರಾಕ್ಸಿಥೈಲ್ ಮೀಥೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್‌ಗಳನ್ನು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇವುಗಳನ್ನು ಕ್ರಮವಾಗಿ MC1, MC2 ಮತ್ತು MC3 ಎಂದು ಸೂಚಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.MC2 ನಲ್ಲಿ 5% (ಮಾಸ್ ಫ್ರಾಕ್ಷನ್) ಪಾಲಿಅಕ್ರಿಲಮೈಡ್ (PAM) ಅನ್ನು ಮಿಶ್ರಣ ಮಾಡುವ ಮೂಲಕ MC3 ಅನ್ನು ಪಡೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ.

1.2 ಮಿಶ್ರಣ ಅನುಪಾತ

ಮೂರು ವಿಧದ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳನ್ನು ಕ್ರಮವಾಗಿ ಸಲ್ಫೋಅಲುಮಿನೇಟ್ ಸಿಮೆಂಟ್‌ಗೆ ಬೆರೆಸಲಾಯಿತು, ಡೋಸೇಜ್‌ಗಳು 0.1%, 0.2% ಮತ್ತು 0.3% (ಸಾಮೂಹಿಕ ಭಾಗ, ಕೆಳಗೆ ಅದೇ).ಸ್ಥಿರ ನೀರು-ಸಿಮೆಂಟ್ ಅನುಪಾತವು 0.6 ಆಗಿದೆ, ಮತ್ತು ನೀರು-ಸಿಮೆಂಟ್ ಅನುಪಾತದ ನೀರು-ಸಿಮೆಂಟ್ ಅನುಪಾತವು ಉತ್ತಮ ಕಾರ್ಯಸಾಧ್ಯತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಮತ್ತು ಪ್ರಮಾಣಿತ ಸ್ಥಿರತೆಯ ನೀರಿನ ಬಳಕೆಯ ಪರೀಕ್ಷೆಯ ಮೂಲಕ ರಕ್ತಸ್ರಾವವಿಲ್ಲ.

1.3 ವಿಧಾನ

ಪ್ರಯೋಗದಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾದ ಕಡಿಮೆ-ಕ್ಷೇತ್ರದ NMR ಉಪಕರಣವು PQ ಆಗಿದೆ⁃ಶಾಂಘೈ ನುಮೆ ಅನಾಲಿಟಿಕಲ್ ಇನ್‌ಸ್ಟ್ರುಮೆಂಟ್ ಕಂ, ಲಿಮಿಟೆಡ್‌ನಿಂದ 001 NMR ವಿಶ್ಲೇಷಕ. ಶಾಶ್ವತ ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟ್‌ನ ಕಾಂತೀಯ ಕ್ಷೇತ್ರದ ಶಕ್ತಿ 0.49T, ಪ್ರೋಟಾನ್ ಅನುರಣನ ಆವರ್ತನವು 21MHz, ಮತ್ತು ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟ್‌ನ ತಾಪಮಾನವು 32.0 ನಲ್ಲಿ ಸ್ಥಿರವಾಗಿರುತ್ತದೆ°C. ಪರೀಕ್ಷೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ, ಸಿಲಿಂಡರಾಕಾರದ ಮಾದರಿಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಸಣ್ಣ ಗಾಜಿನ ಬಾಟಲಿಯನ್ನು ಉಪಕರಣದ ಪ್ರೋಬ್ ಕಾಯಿಲ್‌ಗೆ ಹಾಕಲಾಯಿತು ಮತ್ತು ಸಿಮೆಂಟ್ ಪೇಸ್ಟ್‌ನ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಸಂಕೇತವನ್ನು ಸಂಗ್ರಹಿಸಲು CPMG ಅನುಕ್ರಮವನ್ನು ಬಳಸಲಾಯಿತು.ಪರಸ್ಪರ ಸಂಬಂಧ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆ ಸಾಫ್ಟ್‌ವೇರ್‌ನಿಂದ ವಿಲೋಮಗೊಳಿಸಿದ ನಂತರ, ಸಿರ್ಟ್ ವಿಲೋಮ ಅಲ್ಗಾರಿದಮ್ ಅನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು T2 ವಿಲೋಮ ಕರ್ವ್ ಅನ್ನು ಪಡೆಯಲಾಯಿತು.ಸ್ಲರಿಯಲ್ಲಿನ ವಿಭಿನ್ನ ಮಟ್ಟದ ಸ್ವಾತಂತ್ರ್ಯವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ನೀರನ್ನು ಅಡ್ಡಾದಿಡ್ಡಿ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ವರ್ಣಪಟಲದಲ್ಲಿ ವಿಭಿನ್ನ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರಗಳಿಂದ ನಿರೂಪಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರದ ಪ್ರದೇಶವು ನೀರಿನ ಪ್ರಮಾಣದೊಂದಿಗೆ ಧನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಪರಸ್ಪರ ಸಂಬಂಧ ಹೊಂದಿದೆ, ಅದರ ಆಧಾರದ ಮೇಲೆ ಸ್ಲರಿಯಲ್ಲಿರುವ ನೀರಿನ ಪ್ರಕಾರ ಮತ್ತು ವಿಷಯ ವಿಶ್ಲೇಷಿಸಬಹುದು.ನ್ಯೂಕ್ಲಿಯರ್ ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟಿಕ್ ರೆಸೋನೆನ್ಸ್ ಅನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸುವ ಸಲುವಾಗಿ, ರೇಡಿಯೊ ಆವರ್ತನದ ಕೇಂದ್ರ ಆವರ್ತನ O1 (ಘಟಕ: kHz) ಮ್ಯಾಗ್ನೆಟ್ನ ಆವರ್ತನದೊಂದಿಗೆ ಸ್ಥಿರವಾಗಿದೆ ಎಂದು ಖಚಿತಪಡಿಸಿಕೊಳ್ಳುವುದು ಅವಶ್ಯಕವಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಪರೀಕ್ಷೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ O1 ಅನ್ನು ಪ್ರತಿದಿನ ಮಾಪನಾಂಕ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ.

ಜರ್ಮನಿಯ NETZSCH ನಿಂದ STA 449C ಸಂಯೋಜಿತ ಉಷ್ಣ ವಿಶ್ಲೇಷಕದೊಂದಿಗೆ TG?DSC ಮೂಲಕ ಮಾದರಿಗಳನ್ನು ವಿಶ್ಲೇಷಿಸಲಾಗಿದೆ.N2 ಅನ್ನು ರಕ್ಷಣಾತ್ಮಕ ವಾತಾವರಣವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಯಿತು, ತಾಪನ ದರವು 10 ಆಗಿತ್ತು°C/min, ಮತ್ತು ಸ್ಕ್ಯಾನಿಂಗ್ ತಾಪಮಾನದ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯು 30-800 ಆಗಿತ್ತು°C.

2. ಫಲಿತಾಂಶಗಳು ಮತ್ತು ಚರ್ಚೆ

2.1 ನೀರಿನ ಘಟಕಗಳ ವಿಕಸನ

2.1.1 ಅನ್ಡೋಪ್ಡ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್

ಎರಡು ಸಲ್ಫೋಅಲ್ಯುಮಿನೇಟ್ ಸಿಮೆಂಟ್ ಸ್ಲರಿಗಳ ಅಡ್ಡಾದಿಡ್ಡಿ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಸಮಯ (T2) ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರಾದಲ್ಲಿ ಎರಡು ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರಗಳನ್ನು (ಮೊದಲ ಮತ್ತು ಎರಡನೆಯ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರಗಳು ಎಂದು ವ್ಯಾಖ್ಯಾನಿಸಲಾಗಿದೆ) ಸ್ಪಷ್ಟವಾಗಿ ಗಮನಿಸಬಹುದು.ಮೊದಲ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರವು ಫ್ಲೋಕ್ಯುಲೇಷನ್ ರಚನೆಯ ಒಳಭಾಗದಿಂದ ಹುಟ್ಟಿಕೊಂಡಿದೆ, ಇದು ಕಡಿಮೆ ಮಟ್ಟದ ಸ್ವಾತಂತ್ರ್ಯ ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ ಅಡ್ಡ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಸಮಯವನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ;ಎರಡನೇ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರವು ಫ್ಲೋಕ್ಯುಲೇಷನ್ ರಚನೆಗಳ ನಡುವೆ ಹುಟ್ಟಿಕೊಂಡಿದೆ, ಇದು ದೊಡ್ಡ ಮಟ್ಟದ ಸ್ವಾತಂತ್ರ್ಯ ಮತ್ತು ದೀರ್ಘ ಅಡ್ಡ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಸಮಯವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ.ಇದಕ್ಕೆ ವ್ಯತಿರಿಕ್ತವಾಗಿ, ಎರಡು ಸಿಮೆಂಟ್‌ಗಳ ಮೊದಲ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರಕ್ಕೆ ಅನುಗುಣವಾದ T2 ಅನ್ನು ಹೋಲಿಸಬಹುದಾಗಿದೆ, ಆದರೆ CSA1 ನ ಎರಡನೇ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರವು ನಂತರ ಕಾಣಿಸಿಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ.ಸಲ್ಫೋಅಲ್ಯುಮಿನೇಟ್ ಸಿಮೆಂಟ್ ಕ್ಲಿಂಕರ್ ಮತ್ತು ಸ್ವಯಂ-ನಿರ್ಮಿತ ಸಿಮೆಂಟ್‌ನಿಂದ ಭಿನ್ನವಾಗಿ, CSA1 ಮತ್ತು CSA2 ನ ಎರಡು ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರಗಳು ಆರಂಭಿಕ ಸ್ಥಿತಿಯಿಂದ ಭಾಗಶಃ ಅತಿಕ್ರಮಿಸುತ್ತವೆ.ಜಲಸಂಚಯನದ ಪ್ರಗತಿಯೊಂದಿಗೆ, ಮೊದಲ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರವು ಕ್ರಮೇಣ ಸ್ವತಂತ್ರವಾಗಿರುತ್ತದೆ, ಪ್ರದೇಶವು ಕ್ರಮೇಣ ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಇದು ಸುಮಾರು 90 ನಿಮಿಷಗಳಲ್ಲಿ ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಕಣ್ಮರೆಯಾಗುತ್ತದೆ.ಎರಡು ಸಿಮೆಂಟ್ ಪೇಸ್ಟ್‌ಗಳ ಫ್ಲೋಕ್ಯುಲೇಷನ್ ರಚನೆ ಮತ್ತು ಫ್ಲೋಕ್ಯುಲೇಷನ್ ರಚನೆಯ ನಡುವೆ ಒಂದು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಮಟ್ಟದ ನೀರಿನ ವಿನಿಮಯವಿದೆ ಎಂದು ಇದು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ.

ಎರಡನೇ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರದ ಗರಿಷ್ಠ ಪ್ರದೇಶದ ಬದಲಾವಣೆ ಮತ್ತು ಶಿಖರದ ತುದಿಗೆ ಅನುಗುಣವಾದ T2 ಮೌಲ್ಯದ ಬದಲಾವಣೆಯು ಕ್ರಮವಾಗಿ ಮುಕ್ತ ನೀರಿನ ಬದಲಾವಣೆ ಮತ್ತು ಭೌತಿಕವಾಗಿ ಬಂಧಿತ ನೀರಿನ ಅಂಶ ಮತ್ತು ಸ್ಲರಿಯಲ್ಲಿನ ನೀರಿನ ಸ್ವಾತಂತ್ರ್ಯದ ಹಂತದ ಬದಲಾವಣೆಯನ್ನು ನಿರೂಪಿಸುತ್ತದೆ. .ಎರಡರ ಸಂಯೋಜನೆಯು ಸ್ಲರಿಯ ಜಲಸಂಚಯನ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚು ಸಮಗ್ರವಾಗಿ ಪ್ರತಿಬಿಂಬಿಸುತ್ತದೆ.ಜಲಸಂಚಯನದ ಪ್ರಗತಿಯೊಂದಿಗೆ, ಗರಿಷ್ಠ ಪ್ರದೇಶವು ಕ್ರಮೇಣ ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು T2 ಮೌಲ್ಯವನ್ನು ಎಡಕ್ಕೆ ಬದಲಾಯಿಸುವುದು ಕ್ರಮೇಣ ಹೆಚ್ಚಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಅವುಗಳ ನಡುವೆ ಒಂದು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಅನುಗುಣವಾದ ಸಂಬಂಧವಿದೆ.

2.1.2 ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಸೇರಿಸಲಾಗಿದೆ

CSA2 ಅನ್ನು 0.3% MC2 ನೊಂದಿಗೆ ಬೆರೆಸಿದ ಉದಾಹರಣೆಯಾಗಿ ತೆಗೆದುಕೊಂಡರೆ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಅನ್ನು ಸೇರಿಸಿದ ನಂತರ ಸಲ್ಫೋಅಲುಮಿನೇಟ್ ಸಿಮೆಂಟ್‌ನ T2 ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರಮ್ ಅನ್ನು ಕಾಣಬಹುದು.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಅನ್ನು ಸೇರಿಸಿದ ನಂತರ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಮೂಲಕ ನೀರಿನ ಹೊರಹೀರುವಿಕೆಯನ್ನು ಪ್ರತಿನಿಧಿಸುವ ಮೂರನೇ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರವು ಅಡ್ಡಹಾಯುವ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಸಮಯವು 100ms ಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿರುವ ಸ್ಥಾನದಲ್ಲಿ ಕಾಣಿಸಿಕೊಂಡಿತು ಮತ್ತು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ವಿಷಯದ ಹೆಚ್ಚಳದೊಂದಿಗೆ ಗರಿಷ್ಠ ಪ್ರದೇಶವು ಕ್ರಮೇಣ ಹೆಚ್ಚಾಯಿತು.

ಫ್ಲೋಕ್ಯುಲೇಷನ್ ರಚನೆಗಳ ನಡುವಿನ ನೀರಿನ ಪ್ರಮಾಣವು ಫ್ಲೋಕ್ಯುಲೇಷನ್ ರಚನೆಯೊಳಗೆ ನೀರಿನ ವಲಸೆ ಮತ್ತು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ನ ನೀರಿನ ಹೊರಹೀರುವಿಕೆಯಿಂದ ಪ್ರಭಾವಿತವಾಗಿರುತ್ತದೆ.ಆದ್ದರಿಂದ, ಫ್ಲೋಕ್ಯುಲೇಷನ್ ರಚನೆಗಳ ನಡುವಿನ ನೀರಿನ ಪ್ರಮಾಣವು ಸ್ಲರಿಯ ಆಂತರಿಕ ರಂಧ್ರ ರಚನೆ ಮತ್ತು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ನೀರಿನ ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವ ಸಾಮರ್ಥ್ಯಕ್ಕೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದೆ.ಎರಡನೇ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರದ ಪ್ರದೇಶವು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ವಿಷಯವು ವಿಭಿನ್ನ ರೀತಿಯ ಸಿಮೆಂಟ್‌ನೊಂದಿಗೆ ಬದಲಾಗುತ್ತದೆ.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ವಿಷಯದ ಹೆಚ್ಚಳದೊಂದಿಗೆ CSA1 ಸ್ಲರಿಯ ಎರಡನೇ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರದ ವಿಸ್ತೀರ್ಣವು ನಿರಂತರವಾಗಿ ಕಡಿಮೆಯಾಯಿತು ಮತ್ತು 0.3% ವಿಷಯದಲ್ಲಿ ಚಿಕ್ಕದಾಗಿದೆ.ಇದಕ್ಕೆ ವ್ಯತಿರಿಕ್ತವಾಗಿ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ವಿಷಯದ ಹೆಚ್ಚಳದೊಂದಿಗೆ CSA2 ಸ್ಲರಿಯ ಎರಡನೇ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಗರಿಷ್ಠ ಪ್ರದೇಶವು ನಿರಂತರವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಾಗುತ್ತದೆ.

ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ವಿಷಯದ ಹೆಚ್ಚಳದೊಂದಿಗೆ ಮೂರನೇ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರದ ಪ್ರದೇಶದ ಬದಲಾವಣೆಯನ್ನು ಪಟ್ಟಿ ಮಾಡಿ.ಮಾದರಿಯ ಗುಣಮಟ್ಟದಿಂದ ಗರಿಷ್ಠ ಪ್ರದೇಶವು ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುವುದರಿಂದ, ಮಾದರಿಯನ್ನು ಲೋಡ್ ಮಾಡುವಾಗ ಸೇರಿಸಲಾದ ಮಾದರಿಯ ಗುಣಮಟ್ಟವು ಒಂದೇ ಆಗಿರುತ್ತದೆ ಎಂದು ಖಚಿತಪಡಿಸಿಕೊಳ್ಳುವುದು ಕಷ್ಟ.ಆದ್ದರಿಂದ, ವಿಭಿನ್ನ ಮಾದರಿಗಳಲ್ಲಿ ಮೂರನೇ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರದ ಸಿಗ್ನಲ್ ಪ್ರಮಾಣವನ್ನು ನಿರೂಪಿಸಲು ಪ್ರದೇಶದ ಅನುಪಾತವನ್ನು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ವಿಷಯದ ಹೆಚ್ಚಳದೊಂದಿಗೆ ಮೂರನೇ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರದ ಪ್ರದೇಶದ ಬದಲಾವಣೆಯಿಂದ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ವಿಷಯದ ಹೆಚ್ಚಳದೊಂದಿಗೆ, ಮೂರನೇ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರದ ಪ್ರದೇಶವು ಮೂಲತಃ ಹೆಚ್ಚುತ್ತಿರುವ ಪ್ರವೃತ್ತಿಯನ್ನು ತೋರಿಸಿದೆ (ಇನ್ CSA1, MC1 ನ ವಿಷಯವು 0.3% ಆಗಿದ್ದಾಗ, ಅದು ಹೆಚ್ಚು ಮೂರನೇ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರದ ಪ್ರದೇಶವು 0.2% ನಲ್ಲಿ ಸ್ವಲ್ಪ ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ), ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ವಿಷಯದ ಹೆಚ್ಚಳದೊಂದಿಗೆ, ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವ ನೀರು ಸಹ ಕ್ರಮೇಣ ಹೆಚ್ಚಾಗುತ್ತದೆ ಎಂದು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ.CSA1 ಸ್ಲರಿಗಳಲ್ಲಿ, MC1 MC2 ಮತ್ತು MC3 ಗಿಂತ ಉತ್ತಮವಾದ ನೀರಿನ ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿತ್ತು;CSA2 ಸ್ಲರಿಗಳಲ್ಲಿ, MC2 ಅತ್ಯುತ್ತಮ ನೀರಿನ ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ.

0.3% ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ವಿಷಯದೊಂದಿಗೆ CSA2 ಸ್ಲರಿಯ ಪ್ರತಿ ಯೂನಿಟ್ ದ್ರವ್ಯರಾಶಿಯ ಮೂರನೇ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರದ ಪ್ರದೇಶದ ಬದಲಾವಣೆಯಿಂದ ಪ್ರತಿ ಯೂನಿಟ್ ದ್ರವ್ಯರಾಶಿಯ ಮೂರನೇ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರದ ಪ್ರದೇಶವು ಜಲಸಂಚಯನದೊಂದಿಗೆ ನಿರಂತರವಾಗಿ ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ. CSA2 ನ ಜಲಸಂಚಯನ ಪ್ರಮಾಣವು ಕ್ಲಿಂಕರ್ ಮತ್ತು ಸ್ವಯಂ-ನಿರ್ಮಿತ ಸಿಮೆಂಟ್‌ಗಿಂತ ವೇಗವಾಗಿರುವುದರಿಂದ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಹೆಚ್ಚಿನ ನೀರಿನ ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಗೆ ಸಮಯ ಹೊಂದಿಲ್ಲ ಮತ್ತು ಸ್ಲರಿಯಲ್ಲಿ ದ್ರವ ಹಂತದ ಸಾಂದ್ರತೆಯ ತ್ವರಿತ ಹೆಚ್ಚಳದಿಂದಾಗಿ ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವ ನೀರನ್ನು ಬಿಡುಗಡೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ.ಇದರ ಜೊತೆಗೆ, MC2 ನ ನೀರಿನ ಹೊರಹೀರುವಿಕೆ MC1 ಮತ್ತು MC3 ಗಿಂತ ಪ್ರಬಲವಾಗಿದೆ, ಇದು ಹಿಂದಿನ ತೀರ್ಮಾನಗಳೊಂದಿಗೆ ಸ್ಥಿರವಾಗಿದೆ.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳ ವಿಭಿನ್ನ 0.3% ಡೋಸೇಜ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಸಮಯದೊಂದಿಗೆ CSA1 ನ ಮೂರನೇ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರದ ಪ್ರತಿ ಯುನಿಟ್ ದ್ರವ್ಯರಾಶಿಯ ಗರಿಷ್ಠ ಪ್ರದೇಶದ ಬದಲಾವಣೆಯಿಂದ CSA1 ನ ಮೂರನೇ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರದ ಬದಲಾವಣೆಯ ನಿಯಮವು CSA2 ಗಿಂತ ಭಿನ್ನವಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಜಲಸಂಚಯನದ ಆರಂಭಿಕ ಹಂತದಲ್ಲಿ CSA1 ನ ಪ್ರದೇಶವು ಸಂಕ್ಷಿಪ್ತವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಾಗುತ್ತದೆ.ವೇಗವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿದ ನಂತರ, ಅದು ಕಣ್ಮರೆಯಾಗಲು ಕಡಿಮೆಯಾಯಿತು, ಇದು CSA1 ನ ದೀರ್ಘ ಹೆಪ್ಪುಗಟ್ಟುವಿಕೆಯ ಸಮಯದಿಂದ ಉಂಟಾಗಬಹುದು.ಇದರ ಜೊತೆಗೆ, CSA2 ಹೆಚ್ಚು ಜಿಪ್ಸಮ್ ಅನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ, ಜಲಸಂಚಯನವು ಹೆಚ್ಚು AFt (3CaO Al2O3 3CaSO4 32H2O) ಅನ್ನು ರೂಪಿಸಲು ಸುಲಭವಾಗಿದೆ, ಸಾಕಷ್ಟು ಉಚಿತ ನೀರನ್ನು ಬಳಸುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು ನೀರಿನ ಬಳಕೆಯ ದರವು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನಿಂದ ನೀರಿನ ಹೊರಹೀರುವಿಕೆಯ ಪ್ರಮಾಣವನ್ನು ಮೀರುತ್ತದೆ, ಇದು ದಿ CSA2 ಸ್ಲರಿಯ ಮೂರನೇ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರದ ಪ್ರದೇಶವು ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತಲೇ ಇತ್ತು.

ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಅನ್ನು ಸಂಯೋಜಿಸಿದ ನಂತರ, ಮೊದಲ ಮತ್ತು ಎರಡನೆಯ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರಗಳು ಸ್ವಲ್ಪ ಮಟ್ಟಿಗೆ ಬದಲಾಗಿವೆ.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಅನ್ನು ಸೇರಿಸಿದ ನಂತರ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಅನ್ನು ಸೇರಿಸಿದ ನಂತರ ಎರಡು ರೀತಿಯ ಸಿಮೆಂಟ್ ಸ್ಲರಿ ಮತ್ತು ತಾಜಾ ಸ್ಲರಿಗಳ ಎರಡನೇ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರದ ಗರಿಷ್ಠ ಅಗಲದಿಂದ ತಾಜಾ ಸ್ಲರಿಯ ಎರಡನೇ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರದ ಗರಿಷ್ಠ ಅಗಲವು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಅನ್ನು ಸೇರಿಸಿದ ನಂತರ ವಿಭಿನ್ನವಾಗಿರುತ್ತದೆ ಎಂದು ನೋಡಬಹುದು.ಹೆಚ್ಚಳ, ಗರಿಷ್ಠ ಆಕಾರವು ಪ್ರಸರಣಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಸಂಯೋಜನೆಯು ಸಿಮೆಂಟ್ ಕಣಗಳ ಒಟ್ಟುಗೂಡಿಸುವಿಕೆಯನ್ನು ಸ್ವಲ್ಪ ಮಟ್ಟಿಗೆ ತಡೆಯುತ್ತದೆ, ಫ್ಲೋಕ್ಯುಲೇಷನ್ ರಚನೆಯನ್ನು ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಸಡಿಲಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ, ನೀರಿನ ಬಂಧಿಸುವ ಮಟ್ಟವನ್ನು ದುರ್ಬಲಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಫ್ಲೋಕ್ಯುಲೇಷನ್ ರಚನೆಗಳ ನಡುವೆ ನೀರಿನ ಸ್ವಾತಂತ್ರ್ಯದ ಮಟ್ಟವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ ಎಂದು ಇದು ತೋರಿಸುತ್ತದೆ.ಆದಾಗ್ಯೂ, ಡೋಸೇಜ್ ಹೆಚ್ಚಳದೊಂದಿಗೆ, ಗರಿಷ್ಠ ಅಗಲದ ಹೆಚ್ಚಳವು ಸ್ಪಷ್ಟವಾಗಿಲ್ಲ, ಮತ್ತು ಕೆಲವು ಮಾದರಿಗಳ ಗರಿಷ್ಠ ಅಗಲವು ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ.ಡೋಸೇಜ್‌ನ ಹೆಚ್ಚಳವು ಸ್ಲರಿಯ ದ್ರವ ಹಂತದ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಅದೇ ಸಮಯದಲ್ಲಿ, ಸಿಮೆಂಟ್ ಕಣಗಳಿಗೆ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯು ಫ್ಲೋಕ್ಯುಲೇಷನ್ ಅನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡುತ್ತದೆ.ರಚನೆಗಳ ನಡುವಿನ ತೇವಾಂಶದ ಸ್ವಾತಂತ್ರ್ಯದ ಮಟ್ಟವು ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ.

ಮೊದಲ ಮತ್ತು ಎರಡನೆಯ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರಗಳ ನಡುವಿನ ಪ್ರತ್ಯೇಕತೆಯ ಮಟ್ಟವನ್ನು ವಿವರಿಸಲು ರೆಸಲ್ಯೂಶನ್ ಅನ್ನು ಬಳಸಬಹುದು.ಪ್ರತ್ಯೇಕತೆಯ ಮಟ್ಟವನ್ನು ನಿರ್ಣಯದ ಮಟ್ಟಕ್ಕೆ ಅನುಗುಣವಾಗಿ ಲೆಕ್ಕಹಾಕಬಹುದು = (ಮೊದಲ ಘಟಕ-ಅಸಡಲ್)/ಮೊದಲ ಘಟಕ, ಅಲ್ಲಿ ಮೊದಲಿನ ಘಟಕ ಮತ್ತು ಅಸ್ಯಾಡಲ್ ಮೊದಲ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರದ ಗರಿಷ್ಠ ವೈಶಾಲ್ಯ ಮತ್ತು ಎರಡು ಶಿಖರಗಳ ನಡುವಿನ ಕಡಿಮೆ ಬಿಂದುವಿನ ವೈಶಾಲ್ಯವನ್ನು ಪ್ರತಿನಿಧಿಸುತ್ತದೆ. ಕ್ರಮವಾಗಿ.ಸ್ಲರಿ ಫ್ಲೋಕ್ಯುಲೇಷನ್ ರಚನೆ ಮತ್ತು ಫ್ಲೋಕ್ಯುಲೇಷನ್ ರಚನೆಯ ನಡುವಿನ ನೀರಿನ ವಿನಿಮಯದ ಮಟ್ಟವನ್ನು ನಿರೂಪಿಸಲು ಪ್ರತ್ಯೇಕತೆಯ ಮಟ್ಟವನ್ನು ಬಳಸಬಹುದು, ಮತ್ತು ಮೌಲ್ಯವು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ 0-1 ಆಗಿರುತ್ತದೆ.ಬೇರ್ಪಡಿಸುವಿಕೆಗೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಮೌಲ್ಯವು ನೀರಿನ ಎರಡು ಭಾಗಗಳನ್ನು ವಿನಿಮಯ ಮಾಡಿಕೊಳ್ಳಲು ಹೆಚ್ಚು ಕಷ್ಟಕರವಾಗಿದೆ ಎಂದು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು 1 ಕ್ಕೆ ಸಮಾನವಾದ ಮೌಲ್ಯವು ನೀರಿನ ಎರಡು ಭಾಗಗಳನ್ನು ಬದಲಾಯಿಸಲು ಸಾಧ್ಯವಿಲ್ಲ ಎಂದು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ.

ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಅನ್ನು ಸೇರಿಸದೆಯೇ ಎರಡು ಸಿಮೆಂಟ್‌ಗಳ ಬೇರ್ಪಡಿಕೆ ಪದವಿ ಸಮಾನವಾಗಿರುತ್ತದೆ, ಎರಡೂ ಸುಮಾರು 0.64, ಮತ್ತು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಅನ್ನು ಸೇರಿಸಿದ ನಂತರ ಪ್ರತ್ಯೇಕತೆಯ ಪದವಿ ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ ಎಂದು ಬೇರ್ಪಡಿಕೆ ಪದವಿಯ ಲೆಕ್ಕಾಚಾರದ ಫಲಿತಾಂಶಗಳಿಂದ ನೋಡಬಹುದಾಗಿದೆ.ಒಂದೆಡೆ, ಡೋಸೇಜ್ ಹೆಚ್ಚಳದೊಂದಿಗೆ ರೆಸಲ್ಯೂಶನ್ ಮತ್ತಷ್ಟು ಕಡಿಮೆಯಾಗುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು ಎರಡು ಶಿಖರಗಳ ರೆಸಲ್ಯೂಶನ್ 0.3% MC3 ನೊಂದಿಗೆ CSA2 ನಲ್ಲಿ 0 ಗೆ ಇಳಿಯುತ್ತದೆ, ಇದು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ನೀರಿನ ಒಳಗೆ ಮತ್ತು ನಡುವೆ ನೀರಿನ ವಿನಿಮಯವನ್ನು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಉತ್ತೇಜಿಸುತ್ತದೆ ಎಂದು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ. ಫ್ಲೋಕ್ಯುಲೇಷನ್ ರಚನೆಗಳು.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಸಂಯೋಜನೆಯು ಮೂಲತಃ ಮೊದಲ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರದ ಸ್ಥಾನ ಮತ್ತು ಪ್ರದೇಶದ ಮೇಲೆ ಯಾವುದೇ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುವುದಿಲ್ಲ ಎಂಬ ಅಂಶದ ಆಧಾರದ ಮೇಲೆ, ರೆಸಲ್ಯೂಶನ್‌ನಲ್ಲಿನ ಇಳಿಕೆಯು ಎರಡನೇ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರದ ಅಗಲದಲ್ಲಿನ ಹೆಚ್ಚಳದಿಂದಾಗಿ ಭಾಗಶಃ ಕಾರಣ ಎಂದು ಊಹಿಸಬಹುದು, ಮತ್ತು ಸಡಿಲವಾದ ಫ್ಲೋಕ್ಯುಲೇಷನ್ ರಚನೆಯು ಒಳ ಮತ್ತು ಹೊರಗಿನ ನಡುವಿನ ನೀರಿನ ವಿನಿಮಯವನ್ನು ಸುಲಭಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ.ಇದರ ಜೊತೆಗೆ, ಸ್ಲರಿ ರಚನೆಯಲ್ಲಿ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಅತಿಕ್ರಮಿಸುವಿಕೆಯು ಫ್ಲೋಕ್ಯುಲೇಷನ್ ರಚನೆಯ ಒಳ ಮತ್ತು ಹೊರಗಿನ ನಡುವಿನ ನೀರಿನ ವಿನಿಮಯದ ಮಟ್ಟವನ್ನು ಇನ್ನಷ್ಟು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ.ಮತ್ತೊಂದೆಡೆ, CSA2 ನಲ್ಲಿ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ರೆಸಲ್ಯೂಶನ್ ಕಡಿತದ ಪರಿಣಾಮವು CSA1 ಗಿಂತ ಪ್ರಬಲವಾಗಿದೆ, ಇದು ಸಣ್ಣ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಮೇಲ್ಮೈ ವಿಸ್ತೀರ್ಣ ಮತ್ತು CSA2 ನ ದೊಡ್ಡ ಕಣದ ಗಾತ್ರದಿಂದಾಗಿರಬಹುದು, ಇದು ನಂತರ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಪ್ರಸರಣ ಪರಿಣಾಮಕ್ಕೆ ಹೆಚ್ಚು ಸೂಕ್ಷ್ಮವಾಗಿರುತ್ತದೆ. ಸಂಯೋಜನೆ.

2.2 ಸ್ಲರಿ ಸಂಯೋಜನೆಯಲ್ಲಿ ಬದಲಾವಣೆಗಳು

90 ನಿಮಿಷ, 150 ನಿಮಿಷ ಮತ್ತು 1 ದಿನಕ್ಕೆ ಹೈಡ್ರೀಕರಿಸಿದ CSA1 ಮತ್ತು CSA2 ಸ್ಲರಿಗಳ TG-DTG ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರಾದಿಂದ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಅನ್ನು ಸೇರಿಸುವ ಮೊದಲು ಮತ್ತು ನಂತರ ಜಲಸಂಚಯನ ಉತ್ಪನ್ನಗಳ ಪ್ರಕಾರಗಳು ಬದಲಾಗಿಲ್ಲ ಮತ್ತು AFt, AFm ಮತ್ತು AH3 ಎಲ್ಲವೂ ಆಗಿದ್ದವು. ರೂಪುಗೊಂಡಿತು.AFt ನ ವಿಘಟನೆಯ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯು 50-120 ಎಂದು ಸಾಹಿತ್ಯವು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ°ಸಿ;AFm ನ ವಿಭಜನೆಯ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯು 160-220 ಆಗಿದೆ°ಸಿ;AH3 ನ ವಿಭಜನೆಯ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯು 220-300 ಆಗಿದೆ°C. ಜಲಸಂಚಯನದ ಪ್ರಗತಿಯೊಂದಿಗೆ, ಮಾದರಿಯ ತೂಕ ನಷ್ಟವು ಕ್ರಮೇಣ ಹೆಚ್ಚಾಯಿತು ಮತ್ತು AFt, AFm ಮತ್ತು AH3 ನ ವಿಶಿಷ್ಟವಾದ DTG ಶಿಖರಗಳು ಕ್ರಮೇಣ ಸ್ಪಷ್ಟವಾಯಿತು, ಇದು ಮೂರು ಜಲಸಂಚಯನ ಉತ್ಪನ್ನಗಳ ರಚನೆಯು ಕ್ರಮೇಣ ಹೆಚ್ಚುತ್ತಿದೆ ಎಂದು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ.

ವಿಭಿನ್ನ ಜಲಸಂಚಯನ ವಯಸ್ಸಿನ ಮಾದರಿಯಲ್ಲಿನ ಪ್ರತಿ ಜಲಸಂಚಯನ ಉತ್ಪನ್ನದ ದ್ರವ್ಯರಾಶಿಯ ಭಾಗದಿಂದ, 1d ವಯಸ್ಸಿನಲ್ಲಿ ಖಾಲಿ ಮಾದರಿಯ AFt ಪೀಳಿಗೆಯು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನೊಂದಿಗೆ ಬೆರೆಸಿದ ಮಾದರಿಯನ್ನು ಮೀರಿದೆ ಎಂದು ನೋಡಬಹುದು, ಇದು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಮೇಲೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರಭಾವ ಬೀರುತ್ತದೆ ಎಂದು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ. ಹೆಪ್ಪುಗಟ್ಟುವಿಕೆಯ ನಂತರ ಸ್ಲರಿಯ ಜಲಸಂಚಯನ.ಒಂದು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ವಿಳಂಬ ಪರಿಣಾಮವಿದೆ.90 ನಿಮಿಷಗಳಲ್ಲಿ, ಮೂರು ಮಾದರಿಗಳ AFm ಉತ್ಪಾದನೆಯು ಒಂದೇ ಆಗಿರುತ್ತದೆ;90-150 ನಿಮಿಷಗಳಲ್ಲಿ, ಖಾಲಿ ಮಾದರಿಯಲ್ಲಿ AFm ಉತ್ಪಾದನೆಯು ಇತರ ಎರಡು ಗುಂಪುಗಳ ಮಾದರಿಗಳಿಗಿಂತ ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ನಿಧಾನವಾಗಿತ್ತು;1 ದಿನದ ನಂತರ, ಖಾಲಿ ಮಾದರಿಯಲ್ಲಿನ AFm ನ ವಿಷಯವು MC1 ನೊಂದಿಗೆ ಬೆರೆಸಿದ ಮಾದರಿಯಂತೆಯೇ ಇರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು MC2 ಮಾದರಿಯ AFm ವಿಷಯವು ಇತರ ಮಾದರಿಗಳಲ್ಲಿ ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಕಡಿಮೆಯಾಗಿದೆ.ಜಲಸಂಚಯನ ಉತ್ಪನ್ನ AH3 ಗಾಗಿ, 90 ನಿಮಿಷಗಳ ಕಾಲ ಜಲಸಂಚಯನದ ನಂತರ CSA1 ಖಾಲಿ ಮಾದರಿಯ ಉತ್ಪಾದನೆಯ ದರವು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಿಂತ ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ನಿಧಾನವಾಗಿತ್ತು, ಆದರೆ ಉತ್ಪಾದನೆಯ ದರವು 90 ನಿಮಿಷಗಳ ನಂತರ ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ವೇಗವಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಮೂರು ಮಾದರಿಗಳ AH3 ಉತ್ಪಾದನೆ ಪ್ರಮಾಣ 1 ದಿನದಲ್ಲಿ ಸಮನಾಗಿತ್ತು.

CSA2 ಸ್ಲರಿಯನ್ನು 90 ನಿಮಿಷ ಮತ್ತು 150 ನಿಮಿಷಗಳ ಕಾಲ ಹೈಡ್ರೀಕರಿಸಿದ ನಂತರ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನೊಂದಿಗೆ ಬೆರೆಸಿದ ಮಾದರಿಯಲ್ಲಿ ಉತ್ಪತ್ತಿಯಾಗುವ AFT ಯ ಪ್ರಮಾಣವು ಖಾಲಿ ಮಾದರಿಗಿಂತ ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಕಡಿಮೆಯಾಗಿದೆ, ಇದು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಸಹ CSA2 ಸ್ಲರಿ ಮೇಲೆ ಒಂದು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ರಿಟಾರ್ಡಿಂಗ್ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಎಂದು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ.1d ವಯಸ್ಸಿನಲ್ಲಿ ಮಾದರಿಗಳಲ್ಲಿ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನೊಂದಿಗೆ ಬೆರೆಸಿದ ಮಾದರಿಗಿಂತ ಖಾಲಿ ಮಾದರಿಯ AFt ವಿಷಯವು ಇನ್ನೂ ಹೆಚ್ಚಾಗಿರುತ್ತದೆ ಎಂದು ಕಂಡುಬಂದಿದೆ, ಇದು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಅಂತಿಮ ಸೆಟ್ಟಿಂಗ್ ನಂತರ CSA2 ನ ಜಲಸಂಚಯನದ ಮೇಲೆ ಇನ್ನೂ ಒಂದು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಮಂದಗತಿಯ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಎಂದು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು MC2 ನಲ್ಲಿನ ಮಂದಗತಿಯ ಮಟ್ಟವು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನೊಂದಿಗೆ ಸೇರಿಸಲಾದ ಮಾದರಿಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಾಗಿರುತ್ತದೆ.MC1.90 ನಿಮಿಷಗಳಲ್ಲಿ, ಖಾಲಿ ಮಾದರಿಯಿಂದ ಉತ್ಪತ್ತಿಯಾಗುವ AH3 ಪ್ರಮಾಣವು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನೊಂದಿಗೆ ಬೆರೆಸಿದ ಮಾದರಿಗಿಂತ ಸ್ವಲ್ಪ ಕಡಿಮೆಯಾಗಿದೆ;150 ನಿಮಿಷಗಳಲ್ಲಿ, ಖಾಲಿ ಮಾದರಿಯಿಂದ ಉತ್ಪತ್ತಿಯಾಗುವ AH3 ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನೊಂದಿಗೆ ಬೆರೆಸಿದ ಮಾದರಿಯನ್ನು ಮೀರಿದೆ;1 ದಿನದಲ್ಲಿ, ಮೂರು ಮಾದರಿಗಳಿಂದ ಉತ್ಪತ್ತಿಯಾದ AH3 ಸಮನಾಗಿರುತ್ತದೆ.

3. ತೀರ್ಮಾನ

(1) ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಫ್ಲೋಕ್ಯುಲೇಷನ್ ರಚನೆ ಮತ್ತು ಫ್ಲೋಕ್ಯುಲೇಷನ್ ರಚನೆಯ ನಡುವಿನ ನೀರಿನ ವಿನಿಮಯವನ್ನು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಉತ್ತೇಜಿಸುತ್ತದೆ.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಅನ್ನು ಸಂಯೋಜಿಸಿದ ನಂತರ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಸ್ಲರಿಯಲ್ಲಿ ನೀರನ್ನು ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ, ಇದು ಟ್ರಾನ್ಸ್ವರ್ಸ್ ರಿಲಾಕ್ಸೇಶನ್ ಟೈಮ್ (ಟಿ 2) ಸ್ಪೆಕ್ಟ್ರಮ್ನಲ್ಲಿ ಮೂರನೇ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರವಾಗಿ ನಿರೂಪಿಸಲ್ಪಟ್ಟಿದೆ.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ವಿಷಯದ ಹೆಚ್ಚಳದೊಂದಿಗೆ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ನೀರಿನ ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯು ಹೆಚ್ಚಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಮೂರನೇ ವಿಶ್ರಾಂತಿ ಶಿಖರದ ಪ್ರದೇಶವು ಹೆಚ್ಚಾಗುತ್ತದೆ.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವ ನೀರು ಕ್ರಮೇಣ ಸ್ಲರಿಯ ಜಲಸಂಚಯನದೊಂದಿಗೆ ಫ್ಲೋಕ್ಯುಲೇಷನ್ ರಚನೆಗೆ ಬಿಡುಗಡೆಯಾಗುತ್ತದೆ.

(2) ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಸಂಯೋಜನೆಯು ಒಂದು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಮಟ್ಟಿಗೆ ಸಿಮೆಂಟ್ ಕಣಗಳ ಒಟ್ಟುಗೂಡಿಸುವಿಕೆಯನ್ನು ತಡೆಯುತ್ತದೆ, ಇದು ಫ್ಲೋಕ್ಯುಲೇಷನ್ ರಚನೆಯನ್ನು ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಸಡಿಲಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ;ಮತ್ತು ವಿಷಯದ ಹೆಚ್ಚಳದೊಂದಿಗೆ, ಸ್ಲರಿಯ ದ್ರವ ಹಂತದ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯು ಹೆಚ್ಚಾಗುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಸಿಮೆಂಟ್ ಕಣಗಳ ಮೇಲೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಬೀರುತ್ತದೆ.ವರ್ಧಿತ ಹೊರಹೀರುವಿಕೆಯ ಪರಿಣಾಮವು ಫ್ಲೋಕ್ಯುಲೇಟೆಡ್ ರಚನೆಗಳ ನಡುವಿನ ನೀರಿನ ಸ್ವಾತಂತ್ರ್ಯದ ಮಟ್ಟವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ.

(3) ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಅನ್ನು ಸೇರಿಸುವ ಮೊದಲು ಮತ್ತು ನಂತರ, ಸಲ್ಫೋಅಲುಮಿನೇಟ್ ಸಿಮೆಂಟ್ ಸ್ಲರಿಯಲ್ಲಿನ ಜಲಸಂಚಯನ ಉತ್ಪನ್ನಗಳ ಪ್ರಕಾರಗಳು ಬದಲಾಗಲಿಲ್ಲ ಮತ್ತು AFt, AFm ಮತ್ತು ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಅಂಟು ರೂಪುಗೊಂಡವು;ಆದರೆ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಜಲಸಂಚಯನ ಉತ್ಪನ್ನಗಳ ಪರಿಣಾಮದ ರಚನೆಯನ್ನು ಸ್ವಲ್ಪ ವಿಳಂಬಗೊಳಿಸಿತು.