ಜಿಪ್ಸಮ್-ಆಧಾರಿತ ಯಂತ್ರ-ಸ್ಪ್ರೇಡ್ ಪ್ಲ್ಯಾಸ್ಟರ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಒಟ್ಟುಗೂಡಿಸುವಿಕೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಲು ಕಾದಂಬರಿ HEMC ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳ ಅಭಿವೃದ್ಧಿ

ಜಿಪ್ಸಮ್-ಆಧಾರಿತ ಯಂತ್ರ-ಸ್ಪ್ರೇಡ್ ಪ್ಲ್ಯಾಸ್ಟರ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಒಟ್ಟುಗೂಡಿಸುವಿಕೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಲು ಕಾದಂಬರಿ HEMC ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳ ಅಭಿವೃದ್ಧಿ

ಜಿಪ್ಸಮ್-ಆಧಾರಿತ ಯಂತ್ರ-ಸ್ಪ್ರೇಡ್ ಪ್ಲಾಸ್ಟರ್ (GSP) ಅನ್ನು 1970 ರ ದಶಕದಿಂದಲೂ ಪಶ್ಚಿಮ ಯುರೋಪ್‌ನಲ್ಲಿ ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.ಯಾಂತ್ರಿಕ ಸಿಂಪಡಿಸುವಿಕೆಯ ಹೊರಹೊಮ್ಮುವಿಕೆಯು ನಿರ್ಮಾಣ ವೆಚ್ಚವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುವಾಗ ಪ್ಲ್ಯಾಸ್ಟರಿಂಗ್ ನಿರ್ಮಾಣದ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಪರಿಣಾಮಕಾರಿಯಾಗಿ ಸುಧಾರಿಸಿದೆ.GSP ವಾಣಿಜ್ಯೀಕರಣದ ಆಳವಾಗುವುದರೊಂದಿಗೆ, ನೀರಿನಲ್ಲಿ ಕರಗುವ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಒಂದು ಪ್ರಮುಖ ಸಂಯೋಜಕವಾಗಿದೆ.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಉತ್ತಮ ನೀರಿನ ಧಾರಣ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯೊಂದಿಗೆ GSP ಅನ್ನು ನೀಡುತ್ತದೆ, ಇದು ಪ್ಲ್ಯಾಸ್ಟರ್‌ನಲ್ಲಿನ ತೇವಾಂಶದ ತಲಾಧಾರದ ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯನ್ನು ಮಿತಿಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಸ್ಥಿರ ಸೆಟ್ಟಿಂಗ್ ಸಮಯ ಮತ್ತು ಉತ್ತಮ ಯಾಂತ್ರಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಪಡೆಯುತ್ತದೆ.ಇದರ ಜೊತೆಯಲ್ಲಿ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ರೆಯೋಲಾಜಿಕಲ್ ಕರ್ವ್ ಯಂತ್ರ ಸಿಂಪಡಿಸುವಿಕೆಯ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ನಂತರದ ಮಾರ್ಟರ್ ಲೆವೆಲಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಪೂರ್ಣಗೊಳಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳನ್ನು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಸರಳಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ.

GSP ಅನ್ವಯಗಳಲ್ಲಿ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳ ಸ್ಪಷ್ಟ ಪ್ರಯೋಜನಗಳ ಹೊರತಾಗಿಯೂ, ಸಿಂಪಡಿಸಿದಾಗ ಒಣ ಉಂಡೆಗಳ ರಚನೆಗೆ ಇದು ಸಮರ್ಥವಾಗಿ ಕೊಡುಗೆ ನೀಡುತ್ತದೆ.ಈ ತೇವಗೊಳಿಸದ ಕ್ಲಂಪ್‌ಗಳನ್ನು ಕ್ಲಂಪಿಂಗ್ ಅಥವಾ ಕೇಕಿಂಗ್ ಎಂದೂ ಕರೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು ಅವು ಗಾರೆಗಳ ಲೆವೆಲಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಫಿನಿಶಿಂಗ್ ಮೇಲೆ ಪ್ರತಿಕೂಲ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತವೆ.ಒಟ್ಟುಗೂಡಿಸುವಿಕೆಯು ಸೈಟ್ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಜಿಪ್ಸಮ್ ಉತ್ಪನ್ನದ ಅನ್ವಯಗಳ ವೆಚ್ಚವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ.GSP ಯಲ್ಲಿ ಉಂಡೆಗಳ ರಚನೆಯ ಮೇಲೆ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಚೆನ್ನಾಗಿ ಅರ್ಥಮಾಡಿಕೊಳ್ಳಲು, ಅವುಗಳ ರಚನೆಯ ಮೇಲೆ ಪ್ರಭಾವ ಬೀರುವ ಸಂಬಂಧಿತ ಉತ್ಪನ್ನ ನಿಯತಾಂಕಗಳನ್ನು ಗುರುತಿಸಲು ಪ್ರಯತ್ನಿಸಲು ನಾವು ಅಧ್ಯಯನವನ್ನು ನಡೆಸಿದ್ದೇವೆ.ಈ ಅಧ್ಯಯನದ ಫಲಿತಾಂಶಗಳ ಆಧಾರದ ಮೇಲೆ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಉತ್ಪನ್ನಗಳ ಸರಣಿಯನ್ನು ನಾವು ಒಟ್ಟುಗೂಡಿಸುವ ಪ್ರವೃತ್ತಿಯನ್ನು ಕಡಿಮೆಗೊಳಿಸಿದ್ದೇವೆ ಮತ್ತು ಪ್ರಾಯೋಗಿಕ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಅವುಗಳನ್ನು ಮೌಲ್ಯಮಾಪನ ಮಾಡಿದ್ದೇವೆ.

ಪ್ರಮುಖ ಪದಗಳು: ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್;ಜಿಪ್ಸಮ್ ಯಂತ್ರ ಸ್ಪ್ರೇ ಪ್ಲಾಸ್ಟರ್;ವಿಸರ್ಜನೆ ದರ;ಕಣ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನ

1.ಪರಿಚಯ

ನೀರಿನಲ್ಲಿ ಕರಗುವ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳನ್ನು ಜಿಪ್ಸಮ್-ಆಧಾರಿತ ಮೆಷಿನ್-ಸ್ಪ್ರೇಡ್ ಪ್ಲ್ಯಾಸ್ಟರ್‌ಗಳಲ್ಲಿ (GSP) ನೀರಿನ ಬೇಡಿಕೆಯನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸಲು, ನೀರಿನ ಧಾರಣವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ಮತ್ತು ಗಾರೆಗಳ ವೈಜ್ಞಾನಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ಯಶಸ್ವಿಯಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗಿದೆ.ಆದ್ದರಿಂದ, ಇದು ಆರ್ದ್ರ ಗಾರೆ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ಸಹಾಯ ಮಾಡುತ್ತದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಮಾರ್ಟರ್ನ ಅಗತ್ಯವಿರುವ ಬಲವನ್ನು ಖಾತ್ರಿಪಡಿಸುತ್ತದೆ.ಅದರ ವಾಣಿಜ್ಯಿಕವಾಗಿ ಕಾರ್ಯಸಾಧ್ಯವಾದ ಮತ್ತು ಪರಿಸರ ಸ್ನೇಹಿ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳಿಂದಾಗಿ, ಒಣ ಮಿಶ್ರಣ GSP ಕಳೆದ 20 ವರ್ಷಗಳಲ್ಲಿ ಯುರೋಪಿನಾದ್ಯಂತ ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುವ ಒಳಾಂಗಣ ಕಟ್ಟಡ ಸಾಮಗ್ರಿಯಾಗಿದೆ.

ಒಣ-ಮಿಶ್ರಣ GSP ಅನ್ನು ಮಿಶ್ರಣ ಮಾಡುವ ಮತ್ತು ಸಿಂಪಡಿಸುವ ಯಂತ್ರೋಪಕರಣಗಳು ದಶಕಗಳಿಂದ ಯಶಸ್ವಿಯಾಗಿ ವಾಣಿಜ್ಯೀಕರಣಗೊಂಡಿವೆ.ವಿವಿಧ ತಯಾರಕರ ಉಪಕರಣಗಳ ಕೆಲವು ತಾಂತ್ರಿಕ ಲಕ್ಷಣಗಳು ಬದಲಾಗುತ್ತವೆಯಾದರೂ, ಎಲ್ಲಾ ವಾಣಿಜ್ಯಿಕವಾಗಿ ಲಭ್ಯವಿರುವ ಸಿಂಪರಣೆ ಯಂತ್ರಗಳು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್-ಒಳಗೊಂಡಿರುವ ಜಿಪ್ಸಮ್ ಡ್ರೈ-ಮಿಕ್ಸ್ ಗಾರೆಯೊಂದಿಗೆ ನೀರು ಮಿಶ್ರಣ ಮಾಡಲು ಬಹಳ ಸೀಮಿತವಾದ ಆಂದೋಲನ ಸಮಯವನ್ನು ಅನುಮತಿಸುತ್ತದೆ.ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ, ಸಂಪೂರ್ಣ ಮಿಶ್ರಣ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಕೆಲವೇ ಸೆಕೆಂಡುಗಳನ್ನು ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ.ಮಿಶ್ರಣ ಮಾಡಿದ ನಂತರ, ಆರ್ದ್ರ ಮಾರ್ಟರ್ ಅನ್ನು ವಿತರಣಾ ಮೆದುಗೊಳವೆ ಮೂಲಕ ಪಂಪ್ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ತಲಾಧಾರದ ಗೋಡೆಯ ಮೇಲೆ ಸಿಂಪಡಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.ಇಡೀ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಒಂದು ನಿಮಿಷದಲ್ಲಿ ಪೂರ್ಣಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ.ಆದಾಗ್ಯೂ, ಅಂತಹ ಕಡಿಮೆ ಅವಧಿಯಲ್ಲಿ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳನ್ನು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ನಲ್ಲಿ ತಮ್ಮ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಲು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಕರಗಿಸಬೇಕಾಗುತ್ತದೆ.ಜಿಪ್ಸಮ್ ಮಾರ್ಟರ್ ಸೂತ್ರೀಕರಣಗಳಿಗೆ ನುಣ್ಣಗೆ ನೆಲದ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಉತ್ಪನ್ನಗಳನ್ನು ಸೇರಿಸುವುದು ಈ ಸಿಂಪರಣೆ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ಸಂಪೂರ್ಣ ಕರಗುವಿಕೆಯನ್ನು ಖಚಿತಪಡಿಸುತ್ತದೆ.

ನುಣ್ಣಗೆ ರುಬ್ಬಿದ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಸ್ಪ್ರೇಯರ್‌ನಲ್ಲಿ ಆಂದೋಲನದ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ನೀರಿನ ಸಂಪರ್ಕದಲ್ಲಿ ತ್ವರಿತವಾಗಿ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ನಿರ್ಮಿಸುತ್ತದೆ.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಕರಗುವಿಕೆಯಿಂದ ಉಂಟಾಗುವ ಕ್ಷಿಪ್ರ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯ ಏರಿಕೆಯು ಜಿಪ್ಸಮ್ ಸಿಮೆಂಟಿಯಸ್ ವಸ್ತುಗಳ ಕಣಗಳ ಏಕಕಾಲೀನ ನೀರಿನ ತೇವದೊಂದಿಗೆ ಸಮಸ್ಯೆಗಳನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡುತ್ತದೆ.ನೀರು ದಪ್ಪವಾಗಲು ಪ್ರಾರಂಭಿಸಿದಾಗ, ಅದು ಕಡಿಮೆ ದ್ರವವಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಜಿಪ್ಸಮ್ ಕಣಗಳ ನಡುವಿನ ಸಣ್ಣ ರಂಧ್ರಗಳಿಗೆ ತೂರಿಕೊಳ್ಳಲು ಸಾಧ್ಯವಿಲ್ಲ.ರಂಧ್ರಗಳ ಪ್ರವೇಶವನ್ನು ನಿರ್ಬಂಧಿಸಿದ ನಂತರ, ನೀರಿನಿಂದ ಸಿಮೆಂಟಿಯಸ್ ವಸ್ತುಗಳ ಕಣಗಳ ತೇವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ವಿಳಂಬವಾಗುತ್ತದೆ.ಸ್ಪ್ರೇಯರ್‌ನಲ್ಲಿನ ಮಿಶ್ರಣ ಸಮಯವು ಜಿಪ್ಸಮ್ ಕಣಗಳನ್ನು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ತೇವಗೊಳಿಸಲು ಬೇಕಾದ ಸಮಯಕ್ಕಿಂತ ಕಡಿಮೆಯಾಗಿದೆ, ಇದು ತಾಜಾ ಆರ್ದ್ರ ಗಾರೆಗಳಲ್ಲಿ ಒಣ ಪುಡಿ ಕ್ಲಂಪ್‌ಗಳ ರಚನೆಗೆ ಕಾರಣವಾಯಿತು.ಈ ಕ್ಲಂಪ್ಗಳು ರೂಪುಗೊಂಡ ನಂತರ, ಅವರು ನಂತರದ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳಲ್ಲಿ ಕಾರ್ಮಿಕರ ದಕ್ಷತೆಗೆ ಅಡ್ಡಿಯಾಗುತ್ತಾರೆ: ಕ್ಲಂಪ್ಗಳೊಂದಿಗೆ ಲೆವೆಲಿಂಗ್ ಮಾರ್ಟರ್ ತುಂಬಾ ತೊಂದರೆದಾಯಕವಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚು ಸಮಯ ತೆಗೆದುಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ.ಗಾರೆ ಹೊಂದಿಸಿದ ನಂತರವೂ, ಆರಂಭದಲ್ಲಿ ರೂಪುಗೊಂಡ ಕ್ಲಂಪ್ಗಳು ಕಾಣಿಸಿಕೊಳ್ಳಬಹುದು.ಉದಾಹರಣೆಗೆ, ನಿರ್ಮಾಣದ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಒಳಗೆ ಕ್ಲಂಪ್‌ಗಳನ್ನು ಮುಚ್ಚುವುದು ನಂತರದ ಹಂತದಲ್ಲಿ ಡಾರ್ಕ್ ಪ್ರದೇಶಗಳ ಗೋಚರಿಸುವಿಕೆಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ, ಅದನ್ನು ನಾವು ನೋಡಲು ಬಯಸುವುದಿಲ್ಲ.

ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳನ್ನು ಅನೇಕ ವರ್ಷಗಳಿಂದ ಜಿಎಸ್‌ಪಿಯಲ್ಲಿ ಸೇರ್ಪಡೆಗಳಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗಿದ್ದರೂ, ತೇವಗೊಳಿಸದ ಉಂಡೆಗಳ ರಚನೆಯ ಮೇಲೆ ಅವುಗಳ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಇಲ್ಲಿಯವರೆಗೆ ಹೆಚ್ಚು ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಲಾಗಿಲ್ಲ.ಈ ಲೇಖನವು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ದೃಷ್ಟಿಕೋನದಿಂದ ಒಟ್ಟುಗೂಡಿಸುವಿಕೆಯ ಮೂಲ ಕಾರಣವನ್ನು ಅರ್ಥಮಾಡಿಕೊಳ್ಳಲು ಬಳಸಬಹುದಾದ ವ್ಯವಸ್ಥಿತ ವಿಧಾನವನ್ನು ಪ್ರಸ್ತುತಪಡಿಸುತ್ತದೆ.

2. GSP ಯಲ್ಲಿ ತೇವಗೊಳಿಸದ ಕ್ಲಂಪ್‌ಗಳ ರಚನೆಗೆ ಕಾರಣಗಳು

2.1 ಪ್ಲ್ಯಾಸ್ಟರ್ ಆಧಾರಿತ ಪ್ಲ್ಯಾಸ್ಟರ್ಗಳ ತೇವಗೊಳಿಸುವಿಕೆ

ಸಂಶೋಧನಾ ಕಾರ್ಯಕ್ರಮವನ್ನು ಸ್ಥಾಪಿಸುವ ಆರಂಭಿಕ ಹಂತಗಳಲ್ಲಿ, CSP ಯಲ್ಲಿ ಕ್ಲಂಪ್‌ಗಳ ರಚನೆಗೆ ಹಲವಾರು ಸಂಭವನೀಯ ಮೂಲ ಕಾರಣಗಳನ್ನು ಒಟ್ಟುಗೂಡಿಸಲಾಗಿದೆ.ಮುಂದೆ, ಕಂಪ್ಯೂಟರ್-ಸಹಾಯದ ವಿಶ್ಲೇಷಣೆಯ ಮೂಲಕ, ಪ್ರಾಯೋಗಿಕ ತಾಂತ್ರಿಕ ಪರಿಹಾರವಿದೆಯೇ ಎಂಬುದರ ಮೇಲೆ ಸಮಸ್ಯೆಯನ್ನು ಕೇಂದ್ರೀಕರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.ಈ ಕೃತಿಗಳ ಮೂಲಕ, GSP ಯಲ್ಲಿ ಒಟ್ಟುಗೂಡಿಸುವಿಕೆಯ ರಚನೆಗೆ ಸೂಕ್ತ ಪರಿಹಾರವನ್ನು ಪ್ರಾಥಮಿಕವಾಗಿ ಪ್ರದರ್ಶಿಸಲಾಯಿತು.ತಾಂತ್ರಿಕ ಮತ್ತು ವಾಣಿಜ್ಯ ಪರಿಗಣನೆಗಳೆರಡರಿಂದಲೂ, ಮೇಲ್ಮೈ ಚಿಕಿತ್ಸೆಯಿಂದ ಜಿಪ್ಸಮ್ ಕಣಗಳ ತೇವವನ್ನು ಬದಲಾಯಿಸುವ ತಾಂತ್ರಿಕ ಮಾರ್ಗವನ್ನು ತಳ್ಳಿಹಾಕಲಾಗುತ್ತದೆ.ವಾಣಿಜ್ಯ ದೃಷ್ಟಿಕೋನದಿಂದ, ಅಸ್ತಿತ್ವದಲ್ಲಿರುವ ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಸಿಂಪಡಿಸುವ ಉಪಕರಣದೊಂದಿಗೆ ವಿಶೇಷವಾಗಿ ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಿದ ಮಿಕ್ಸಿಂಗ್ ಚೇಂಬರ್ನೊಂದಿಗೆ ಬದಲಿಸುವ ಕಲ್ಪನೆಯನ್ನು ತಳ್ಳಿಹಾಕಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಸಾಕಷ್ಟು ನೀರು ಮತ್ತು ಗಾರೆ ಮಿಶ್ರಣವನ್ನು ಖಚಿತಪಡಿಸುತ್ತದೆ.

ಜಿಪ್ಸಮ್ ಪ್ಲ್ಯಾಸ್ಟರ್ ಫಾರ್ಮುಲೇಶನ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಆರ್ದ್ರಗೊಳಿಸುವ ಏಜೆಂಟ್‌ಗಳನ್ನು ಸೇರ್ಪಡೆಗಳಾಗಿ ಬಳಸುವುದು ಮತ್ತೊಂದು ಆಯ್ಕೆಯಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಇದಕ್ಕಾಗಿ ನಾವು ಈಗಾಗಲೇ ಪೇಟೆಂಟ್ ಅನ್ನು ಕಂಡುಕೊಂಡಿದ್ದೇವೆ.ಆದಾಗ್ಯೂ, ಈ ಸಂಯೋಜಕವನ್ನು ಸೇರಿಸುವುದು ಅನಿವಾರ್ಯವಾಗಿ ಪ್ಲ್ಯಾಸ್ಟರ್ನ ಕಾರ್ಯಸಾಧ್ಯತೆಯನ್ನು ಋಣಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ.ಹೆಚ್ಚು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ, ಇದು ಗಾರೆಗಳ ಭೌತಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು, ವಿಶೇಷವಾಗಿ ಗಡಸುತನ ಮತ್ತು ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಬದಲಾಯಿಸುತ್ತದೆ.ಆದ್ದರಿಂದ ನಾವು ಅದರ ಬಗ್ಗೆ ಹೆಚ್ಚು ಆಳವಾಗಿ ಅಧ್ಯಯನ ಮಾಡಲಿಲ್ಲ.ಜೊತೆಗೆ, ಒದ್ದೆ ಮಾಡುವ ಏಜೆಂಟ್‌ಗಳ ಸೇರ್ಪಡೆಯು ಪರಿಸರದ ಮೇಲೆ ಪ್ರತಿಕೂಲ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರಬಹುದು ಎಂದು ಪರಿಗಣಿಸಲಾಗಿದೆ.

ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಈಗಾಗಲೇ ಜಿಪ್ಸಮ್-ಆಧಾರಿತ ಪ್ಲಾಸ್ಟರ್ ಸೂತ್ರೀಕರಣದ ಭಾಗವಾಗಿದೆ ಎಂದು ಪರಿಗಣಿಸಿ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಅನ್ನು ಉತ್ತಮಗೊಳಿಸುವುದು ಆಯ್ಕೆ ಮಾಡಬಹುದಾದ ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಪರಿಹಾರವಾಗಿದೆ.ಅದೇ ಸಮಯದಲ್ಲಿ, ಇದು ನೀರಿನ ಧಾರಣ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರಬಾರದು ಅಥವಾ ಬಳಕೆಯಲ್ಲಿರುವ ಪ್ಲ್ಯಾಸ್ಟರ್ನ ರೆಯೋಲಾಜಿಕಲ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಪ್ರತಿಕೂಲವಾಗಿ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರಬಾರದು.ಕಲಕಿಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ನೀರಿನ ಸಂಪರ್ಕದ ನಂತರ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯ ಅತಿಯಾದ ವೇಗದ ಹೆಚ್ಚಳದಿಂದಾಗಿ ಜಿಎಸ್‌ಪಿಯಲ್ಲಿ ತೇವಗೊಳಿಸದ ಪುಡಿಗಳ ಉತ್ಪಾದನೆಯು ಈ ಹಿಂದೆ ಪ್ರಸ್ತಾಪಿಸಲಾದ ಊಹೆಯ ಆಧಾರದ ಮೇಲೆ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳ ವಿಸರ್ಜನೆಯ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸುವುದು ನಮ್ಮ ಅಧ್ಯಯನದ ಮುಖ್ಯ ಗುರಿಯಾಗಿದೆ. .

2.2 ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಕರಗುವ ಸಮಯ

ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳ ವಿಸರ್ಜನೆಯ ದರವನ್ನು ನಿಧಾನಗೊಳಿಸಲು ಸುಲಭವಾದ ಮಾರ್ಗವೆಂದರೆ ಗ್ರ್ಯಾನ್ಯುಲರ್ ದರ್ಜೆಯ ಉತ್ಪನ್ನಗಳನ್ನು ಬಳಸುವುದು.GSP ಯಲ್ಲಿ ಈ ವಿಧಾನವನ್ನು ಬಳಸುವ ಮುಖ್ಯ ಅನನುಕೂಲವೆಂದರೆ ತುಂಬಾ ಒರಟಾದ ಕಣಗಳು ಸ್ಪ್ರೇಯರ್‌ನಲ್ಲಿನ 10-ಸೆಕೆಂಡ್ ಆಂದೋಲನ ವಿಂಡೋದಲ್ಲಿ ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಕರಗುವುದಿಲ್ಲ, ಇದು ನೀರಿನ ಧಾರಣದ ನಷ್ಟಕ್ಕೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ.ಜೊತೆಗೆ, ನಂತರದ ಹಂತದಲ್ಲಿ ಕರಗದ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ನ ಊತವು ಪ್ಲ್ಯಾಸ್ಟರಿಂಗ್ ನಂತರ ದಪ್ಪವಾಗಲು ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ನಿರ್ಮಾಣ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ, ಅದು ನಾವು ನೋಡಲು ಬಯಸುವುದಿಲ್ಲ.

ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳ ವಿಸರ್ಜನೆಯ ದರವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುವ ಇನ್ನೊಂದು ಆಯ್ಕೆಯೆಂದರೆ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳ ಮೇಲ್ಮೈಯನ್ನು ಗ್ಲೈಕ್ಸಲ್‌ನೊಂದಿಗೆ ಹಿಮ್ಮುಖವಾಗಿ ಕ್ರಾಸ್‌ಲಿಂಕ್ ಮಾಡುವುದು.ಆದಾಗ್ಯೂ, ಕ್ರಾಸ್‌ಲಿಂಕಿಂಗ್ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯು pH-ನಿಯಂತ್ರಿತವಾಗಿರುವುದರಿಂದ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳ ವಿಸರ್ಜನೆಯ ದರವು ಸುತ್ತಮುತ್ತಲಿನ ಜಲೀಯ ದ್ರಾವಣದ pH ಮೇಲೆ ಹೆಚ್ಚು ಅವಲಂಬಿತವಾಗಿದೆ.ಸ್ಲೇಕ್ಡ್ ಸುಣ್ಣದೊಂದಿಗೆ ಬೆರೆಸಿದ GSP ವ್ಯವಸ್ಥೆಯ pH ಮೌಲ್ಯವು ತುಂಬಾ ಹೆಚ್ಚಾಗಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಗ್ಲೈಕ್ಸಲ್ನ ಅಡ್ಡ-ಸಂಪರ್ಕ ಬಂಧಗಳು ನೀರನ್ನು ಸಂಪರ್ಕಿಸಿದ ನಂತರ ತ್ವರಿತವಾಗಿ ತೆರೆಯಲ್ಪಡುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯು ತಕ್ಷಣವೇ ಏರಲು ಪ್ರಾರಂಭಿಸುತ್ತದೆ.ಆದ್ದರಿಂದ, ಅಂತಹ ರಾಸಾಯನಿಕ ಚಿಕಿತ್ಸೆಗಳು GSP ಯಲ್ಲಿ ಕರಗುವಿಕೆಯ ಪ್ರಮಾಣವನ್ನು ನಿಯಂತ್ರಿಸುವಲ್ಲಿ ಪಾತ್ರವನ್ನು ವಹಿಸುವುದಿಲ್ಲ.

ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳ ವಿಸರ್ಜನೆಯ ಸಮಯವು ಅವುಗಳ ಕಣಗಳ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನವನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿರುತ್ತದೆ.ಆದಾಗ್ಯೂ, ಈ ಅಂಶವು ಇಲ್ಲಿಯವರೆಗೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಗಮನವನ್ನು ಪಡೆದಿಲ್ಲ, ಆದರೂ ಪರಿಣಾಮವು ಬಹಳ ಮಹತ್ವದ್ದಾಗಿದೆ.ಅವು ಸ್ಥಿರವಾದ ರೇಖೀಯ ವಿಸರ್ಜನೆಯ ದರವನ್ನು ಹೊಂದಿವೆ [kg/(m2•s)], ಆದ್ದರಿಂದ ಅವುಗಳ ವಿಸರ್ಜನೆ ಮತ್ತು ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯ ರಚನೆಯು ಲಭ್ಯವಿರುವ ಮೇಲ್ಮೈಗೆ ಅನುಪಾತದಲ್ಲಿರುತ್ತದೆ.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಕಣಗಳ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನದಲ್ಲಿನ ಬದಲಾವಣೆಗಳೊಂದಿಗೆ ಈ ದರವು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಬದಲಾಗಬಹುದು.ನಮ್ಮ ಲೆಕ್ಕಾಚಾರದಲ್ಲಿ 5 ಸೆಕೆಂಡುಗಳ ಸ್ಫೂರ್ತಿದಾಯಕ ಮಿಶ್ರಣದ ನಂತರ ಪೂರ್ಣ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆ (100%) ತಲುಪುತ್ತದೆ ಎಂದು ಊಹಿಸಲಾಗಿದೆ.

ವಿಭಿನ್ನ ಕಣಗಳ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನದ ಲೆಕ್ಕಾಚಾರಗಳು ಗೋಳಾಕಾರದ ಕಣಗಳು ಅರ್ಧದಷ್ಟು ಮಿಶ್ರಣ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಅಂತಿಮ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯ 35% ನಷ್ಟು ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿವೆ ಎಂದು ತೋರಿಸಿದೆ.ಅದೇ ಸಮಯದಲ್ಲಿ, ರಾಡ್-ಆಕಾರದ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಕಣಗಳು ಕೇವಲ 10% ತಲುಪಬಹುದು.ಡಿಸ್ಕ್-ಆಕಾರದ ಕಣಗಳು ನಂತರ ಕರಗಲು ಪ್ರಾರಂಭಿಸಿದವು2.5 ಸೆಕೆಂಡುಗಳು.

GSP ಯಲ್ಲಿ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳಿಗೆ ಸೂಕ್ತವಾದ ಕರಗುವಿಕೆಯ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಸಹ ಸೇರಿಸಲಾಗಿದೆ.ಆರಂಭಿಕ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯ ರಚನೆಯನ್ನು 4.5 ಸೆಕೆಂಡುಗಳಿಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚು ಕಾಲ ವಿಳಂಬಗೊಳಿಸಿ.ಅದರ ನಂತರ, ಬೆರೆಸುವ ಸಮಯದ 5 ಸೆಕೆಂಡುಗಳ ಒಳಗೆ ಅಂತಿಮ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯನ್ನು ತಲುಪಲು ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯು ವೇಗವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಾಯಿತು.GSP ಯಲ್ಲಿ, ಅಂತಹ ದೀರ್ಘ ವಿಳಂಬದ ವಿಸರ್ಜನೆಯ ಸಮಯವು ಸಿಸ್ಟಮ್ ಕಡಿಮೆ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯನ್ನು ಹೊಂದಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು ಸೇರಿಸಿದ ನೀರು ಜಿಪ್ಸಮ್ ಕಣಗಳನ್ನು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ತೇವಗೊಳಿಸಬಹುದು ಮತ್ತು ಅಡಚಣೆಯಿಲ್ಲದೆ ಕಣಗಳ ನಡುವಿನ ರಂಧ್ರಗಳನ್ನು ಪ್ರವೇಶಿಸಬಹುದು.

3. ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಕಣ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನ

3.1 ಕಣದ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನದ ಮಾಪನ

ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಕಣಗಳ ಆಕಾರವು ಕರಗುವಿಕೆಯ ಮೇಲೆ ಅಂತಹ ಮಹತ್ವದ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಬೀರುವುದರಿಂದ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಕಣಗಳ ಆಕಾರವನ್ನು ವಿವರಿಸುವ ನಿಯತಾಂಕಗಳನ್ನು ಮೊದಲು ನಿರ್ಧರಿಸುವುದು ಅವಶ್ಯಕ, ಮತ್ತು ನಂತರ ಒದ್ದೆಯಾಗದ ನಡುವಿನ ವ್ಯತ್ಯಾಸಗಳನ್ನು ಗುರುತಿಸಲು ಒಟ್ಟುಗೂಡಿಸುವಿಕೆಯ ರಚನೆಯು ನಿರ್ದಿಷ್ಟವಾಗಿ ಪ್ರಸ್ತುತವಾದ ನಿಯತಾಂಕವಾಗಿದೆ. .

ಡೈನಾಮಿಕ್ ಇಮೇಜ್ ಅನಾಲಿಸಿಸ್ ತಂತ್ರದಿಂದ ನಾವು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಕಣ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನವನ್ನು ಪಡೆದುಕೊಂಡಿದ್ದೇವೆ.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳ ಕಣ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನವನ್ನು SYMPATEC ಡಿಜಿಟಲ್ ಇಮೇಜ್ ವಿಶ್ಲೇಷಕ (ಜರ್ಮನಿಯಲ್ಲಿ ತಯಾರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ) ಮತ್ತು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಸಾಫ್ಟ್‌ವೇರ್ ವಿಶ್ಲೇಷಣಾ ಸಾಧನಗಳನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ನಿರೂಪಿಸಬಹುದು.ಪ್ರಮುಖ ಕಣದ ಆಕಾರದ ನಿಯತಾಂಕಗಳು LEFI (50,3) ಎಂದು ವ್ಯಕ್ತಪಡಿಸಲಾದ ಫೈಬರ್‌ಗಳ ಸರಾಸರಿ ಉದ್ದ ಮತ್ತು DIFI (50,3) ಎಂದು ವ್ಯಕ್ತಪಡಿಸಿದ ಸರಾಸರಿ ವ್ಯಾಸ ಎಂದು ಕಂಡುಬಂದಿದೆ.ಫೈಬರ್ ಸರಾಸರಿ ಉದ್ದದ ಡೇಟಾವನ್ನು ನಿರ್ದಿಷ್ಟ ಹರಡಿರುವ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಕಣದ ಪೂರ್ಣ ಉದ್ದ ಎಂದು ಪರಿಗಣಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.

ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಕಣಗಳ ಗಾತ್ರದ ವಿತರಣಾ ಡೇಟಾವನ್ನು ಸರಾಸರಿ ಫೈಬರ್ ವ್ಯಾಸದ DIFI ಕಣಗಳ ಸಂಖ್ಯೆ (0 ರಿಂದ ಸೂಚಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ), ಉದ್ದ (1 ರಿಂದ ಸೂಚಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ), ಪ್ರದೇಶ (2 ರಿಂದ ಸೂಚಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ) ಅಥವಾ ಪರಿಮಾಣ (3 ರಿಂದ ಸೂಚಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ) ಆಧಾರದ ಮೇಲೆ ಲೆಕ್ಕಹಾಕಬಹುದು.ಈ ಪತ್ರಿಕೆಯಲ್ಲಿನ ಎಲ್ಲಾ ಕಣಗಳ ದತ್ತಾಂಶ ಮಾಪನಗಳು ಪರಿಮಾಣವನ್ನು ಆಧರಿಸಿವೆ ಮತ್ತು ಆದ್ದರಿಂದ 3 ಪ್ರತ್ಯಯದೊಂದಿಗೆ ಸೂಚಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.ಉದಾಹರಣೆಗೆ, DIFI (50,3) ನಲ್ಲಿ 3 ಎಂದರೆ ಪರಿಮಾಣ ವಿತರಣೆ, ಮತ್ತು 50 ಎಂದರೆ ಕಣದ ಗಾತ್ರದ ವಿತರಣಾ ರೇಖೆಯ 50% ಸೂಚಿಸಿದ ಮೌಲ್ಯಕ್ಕಿಂತ ಚಿಕ್ಕದಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ಇತರ 50% ಸೂಚಿಸಿದ ಮೌಲ್ಯಕ್ಕಿಂತ ದೊಡ್ಡದಾಗಿದೆ.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಕಣದ ಆಕಾರದ ಡೇಟಾವನ್ನು ಮೈಕ್ರೋಮೀಟರ್‌ಗಳಲ್ಲಿ (µm) ನೀಡಲಾಗಿದೆ.

3.2 ಕಣ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನ ಆಪ್ಟಿಮೈಸೇಶನ್ ನಂತರ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್

ಕಣದ ಮೇಲ್ಮೈಯ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಗಣನೆಗೆ ತೆಗೆದುಕೊಂಡು, ರಾಡ್ ತರಹದ ಕಣದ ಆಕಾರವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಕಣಗಳ ಕಣಗಳ ವಿಸರ್ಜನೆಯ ಸಮಯವು ಸರಾಸರಿ ಫೈಬರ್ ವ್ಯಾಸದ DIFI (50,3) ಅನ್ನು ಬಲವಾಗಿ ಅವಲಂಬಿಸಿರುತ್ತದೆ.ಈ ಊಹೆಯ ಆಧಾರದ ಮೇಲೆ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳ ಅಭಿವೃದ್ಧಿ ಕಾರ್ಯವು ಪುಡಿಯ ಕರಗುವಿಕೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ದೊಡ್ಡ ಸರಾಸರಿ ಫೈಬರ್ ವ್ಯಾಸದ DIFI (50,3) ನೊಂದಿಗೆ ಉತ್ಪನ್ನಗಳನ್ನು ಪಡೆಯುವ ಗುರಿಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ.

ಆದಾಗ್ಯೂ, ಸರಾಸರಿ ಫೈಬರ್ ಉದ್ದದ DIFI(50,3) ಹೆಚ್ಚಳವು ಸರಾಸರಿ ಕಣದ ಗಾತ್ರದಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಳವನ್ನು ನಿರೀಕ್ಷಿಸುವುದಿಲ್ಲ.ಎರಡೂ ನಿಯತಾಂಕಗಳನ್ನು ಒಟ್ಟಿಗೆ ಹೆಚ್ಚಿಸುವುದರಿಂದ ಯಾಂತ್ರಿಕ ಸಿಂಪಡಿಸುವಿಕೆಯ ವಿಶಿಷ್ಟವಾದ 10-ಸೆಕೆಂಡ್ ಆಂದೋಲನದ ಸಮಯದೊಳಗೆ ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಕರಗಲು ತುಂಬಾ ದೊಡ್ಡದಾದ ಕಣಗಳಿಗೆ ಕಾರಣವಾಗುತ್ತದೆ.

ಆದ್ದರಿಂದ, ಒಂದು ಆದರ್ಶ ಹೈಡ್ರಾಕ್ಸಿಥೈಲ್ಮೆಥೈಲ್ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ (HEMC) ಸರಾಸರಿ ಫೈಬರ್ ಉದ್ದ LEFI (50,3) ಅನ್ನು ನಿರ್ವಹಿಸುವಾಗ ದೊಡ್ಡ ಸರಾಸರಿ ಫೈಬರ್ ವ್ಯಾಸವನ್ನು DIFI(50,3) ಹೊಂದಿರಬೇಕು.ಸುಧಾರಿತ HEMC ಅನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸಲು ನಾವು ಹೊಸ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಬಳಸುತ್ತೇವೆ.ಈ ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಮೂಲಕ ಪಡೆದ ನೀರಿನಲ್ಲಿ ಕರಗುವ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಕಣದ ಆಕಾರವು ಉತ್ಪಾದನೆಗೆ ಕಚ್ಚಾ ವಸ್ತುವಾಗಿ ಬಳಸುವ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್‌ನ ಕಣದ ಆಕಾರಕ್ಕಿಂತ ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಭಿನ್ನವಾಗಿದೆ.ಬೇರೆ ರೀತಿಯಲ್ಲಿ ಹೇಳುವುದಾದರೆ, ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಕಣದ ಆಕಾರ ವಿನ್ಯಾಸವು ಅದರ ಉತ್ಪಾದನಾ ಕಚ್ಚಾ ವಸ್ತುಗಳಿಂದ ಸ್ವತಂತ್ರವಾಗಿರಲು ಅನುಮತಿಸುತ್ತದೆ.

ಮೂರು ಸ್ಕ್ಯಾನಿಂಗ್ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಸೂಕ್ಷ್ಮದರ್ಶಕ ಚಿತ್ರಗಳು: ಪ್ರಮಾಣಿತ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಿಂದ ಉತ್ಪತ್ತಿಯಾಗುವ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಒಂದು, ಮತ್ತು ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆ ಸಾಧನ ಉತ್ಪನ್ನಗಳಿಗಿಂತ ದೊಡ್ಡದಾದ DIFI (50,3) ವ್ಯಾಸವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಹೊಸ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಿಂದ ಉತ್ಪತ್ತಿಯಾಗುವ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಒಂದು.ಈ ಎರಡು ಉತ್ಪನ್ನಗಳ ಉತ್ಪಾದನೆಯಲ್ಲಿ ಬಳಸುವ ನುಣ್ಣಗೆ ನೆಲದ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್‌ನ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನವನ್ನು ಸಹ ತೋರಿಸಲಾಗಿದೆ.

ಪ್ರಮಾಣಿತ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಿಂದ ಉತ್ಪತ್ತಿಯಾಗುವ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಮತ್ತು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಮೈಕ್ರೋಗ್ರಾಫ್‌ಗಳನ್ನು ಹೋಲಿಸಿದಾಗ, ಇವೆರಡೂ ಒಂದೇ ರೀತಿಯ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿವೆ ಎಂದು ಕಂಡುಹಿಡಿಯುವುದು ಸುಲಭ.ಎರಡೂ ಚಿತ್ರಗಳಲ್ಲಿನ ದೊಡ್ಡ ಸಂಖ್ಯೆಯ ಕಣಗಳು ವಿಶಿಷ್ಟವಾಗಿ ಉದ್ದವಾದ, ತೆಳುವಾದ ರಚನೆಗಳನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸುತ್ತವೆ, ರಾಸಾಯನಿಕ ಕ್ರಿಯೆಯು ನಡೆದ ನಂತರವೂ ಮೂಲಭೂತ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನದ ಲಕ್ಷಣಗಳು ಬದಲಾಗಿಲ್ಲ ಎಂದು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆ.ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆ ಉತ್ಪನ್ನಗಳ ಕಣದ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಕಚ್ಚಾ ವಸ್ತುಗಳೊಂದಿಗೆ ಹೆಚ್ಚು ಪರಸ್ಪರ ಸಂಬಂಧ ಹೊಂದಿವೆ ಎಂಬುದು ಸ್ಪಷ್ಟವಾಗಿದೆ.

ಹೊಸ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಿಂದ ಉತ್ಪತ್ತಿಯಾಗುವ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನದ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ವಿಭಿನ್ನವಾಗಿವೆ ಎಂದು ಕಂಡುಬಂದಿದೆ, ಇದು ದೊಡ್ಡ ಸರಾಸರಿ ವ್ಯಾಸವನ್ನು DIFI (50,3) ಹೊಂದಿದೆ ಮತ್ತು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಸುತ್ತಿನ ಸಣ್ಣ ಮತ್ತು ದಪ್ಪ ಕಣಗಳ ಆಕಾರಗಳನ್ನು ಪ್ರಸ್ತುತಪಡಿಸುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ವಿಶಿಷ್ಟವಾದ ತೆಳುವಾದ ಮತ್ತು ಉದ್ದವಾದ ಕಣಗಳು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಕಚ್ಚಾ ವಸ್ತುಗಳಲ್ಲಿ ಬಹುತೇಕ ಅಳಿವಿನಂಚಿನಲ್ಲಿದೆ.

ಹೊಸ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಿಂದ ಉತ್ಪತ್ತಿಯಾಗುವ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳ ಕಣ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನವು ಇನ್ನು ಮುಂದೆ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಕಚ್ಚಾ ವಸ್ತುಗಳ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನಕ್ಕೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿಲ್ಲ ಎಂದು ಈ ಅಂಕಿ ಮತ್ತೆ ತೋರಿಸುತ್ತದೆ - ಕಚ್ಚಾ ವಸ್ತುಗಳ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನ ಮತ್ತು ಅಂತಿಮ ಉತ್ಪನ್ನದ ನಡುವಿನ ಸಂಪರ್ಕವು ಇನ್ನು ಮುಂದೆ ಅಸ್ತಿತ್ವದಲ್ಲಿಲ್ಲ.

4. GSP ಯಲ್ಲಿ ತೇವಗೊಳಿಸದ ಕ್ಲಂಪ್‌ಗಳ ರಚನೆಯ ಮೇಲೆ HEMC ಕಣ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನದ ಪರಿಣಾಮ

ಕೆಲಸದ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನದ ಬಗ್ಗೆ ನಮ್ಮ ಊಹೆಯನ್ನು ಪರಿಶೀಲಿಸಲು GSP ಅನ್ನು ಕ್ಷೇತ್ರ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಲ್ಲಿ ಪರೀಕ್ಷಿಸಲಾಯಿತು (ದೊಡ್ಡ ಸರಾಸರಿ ವ್ಯಾಸದ DIFI (50,3) ಜೊತೆಗೆ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಉತ್ಪನ್ನವನ್ನು ಬಳಸುವುದು ಅನಗತ್ಯ ಒಟ್ಟುಗೂಡಿಸುವಿಕೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ)37 µm ನಿಂದ 52 µm ವರೆಗಿನ ಸರಾಸರಿ ವ್ಯಾಸದ DIFI(50,3) ಗಳನ್ನು ಈ ಪ್ರಯೋಗಗಳಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗಿದೆ.ಕಣದ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನವನ್ನು ಹೊರತುಪಡಿಸಿ ಅಂಶಗಳ ಪ್ರಭಾವವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಲು, ಜಿಪ್ಸಮ್ ಪ್ಲಾಸ್ಟರ್ ಬೇಸ್ ಮತ್ತು ಎಲ್ಲಾ ಇತರ ಸೇರ್ಪಡೆಗಳನ್ನು ಬದಲಾಗದೆ ಇರಿಸಲಾಗಿದೆ.ಪರೀಕ್ಷೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯನ್ನು ಸ್ಥಿರವಾಗಿ ಇರಿಸಲಾಗಿದೆ (60,000mPa.s, 2% ಜಲೀಯ ದ್ರಾವಣ, HAAKE ರಿಯೋಮೀಟರ್‌ನೊಂದಿಗೆ ಅಳೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ).

ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಪ್ರಯೋಗಗಳಲ್ಲಿ ಸಿಂಪಡಿಸಲು ವಾಣಿಜ್ಯಿಕವಾಗಿ ಲಭ್ಯವಿರುವ ಜಿಪ್ಸಮ್ ಸ್ಪ್ರೇಯರ್ (PFT G4) ಅನ್ನು ಬಳಸಲಾಯಿತು.ಗೋಡೆಗೆ ಅನ್ವಯಿಸಿದ ತಕ್ಷಣ ಜಿಪ್ಸಮ್ ಮಾರ್ಟರ್ನ ತೇವಗೊಳಿಸದ ಕ್ಲಂಪ್ಗಳ ರಚನೆಯನ್ನು ಮೌಲ್ಯಮಾಪನ ಮಾಡುವತ್ತ ಗಮನಹರಿಸಿ.ಪ್ಲ್ಯಾಸ್ಟರಿಂಗ್ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಉದ್ದಕ್ಕೂ ಈ ಹಂತದಲ್ಲಿ ಕ್ಲಂಪಿಂಗ್‌ನ ಮೌಲ್ಯಮಾಪನವು ಉತ್ಪನ್ನದ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯಲ್ಲಿನ ವ್ಯತ್ಯಾಸಗಳನ್ನು ಉತ್ತಮವಾಗಿ ಬಹಿರಂಗಪಡಿಸುತ್ತದೆ.ಪರೀಕ್ಷೆಯಲ್ಲಿ, ಅನುಭವಿ ಕೆಲಸಗಾರರು ಕ್ಲಂಪಿಂಗ್ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಯನ್ನು ರೇಟ್ ಮಾಡಿದ್ದಾರೆ, 1 ಅತ್ಯುತ್ತಮ ಮತ್ತು 6 ಕೆಟ್ಟದಾಗಿದೆ.

ಪರೀಕ್ಷಾ ಫಲಿತಾಂಶಗಳು ಸರಾಸರಿ ಫೈಬರ್ ವ್ಯಾಸದ DIFI (50,3) ಮತ್ತು ಕ್ಲಂಪಿಂಗ್ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಸ್ಕೋರ್ ನಡುವಿನ ಪರಸ್ಪರ ಸಂಬಂಧವನ್ನು ಸ್ಪಷ್ಟವಾಗಿ ತೋರಿಸುತ್ತವೆ.ದೊಡ್ಡದಾದ DIFI(50,3) ಹೊಂದಿರುವ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಉತ್ಪನ್ನಗಳು ಚಿಕ್ಕದಾದ DIFI(50,3) ಉತ್ಪನ್ನಗಳನ್ನು ಮೀರಿಸಿದೆ ಎಂಬ ನಮ್ಮ ಊಹೆಗೆ ಅನುಗುಣವಾಗಿ, 52 µm ನ DIFI(50,3) ಗಾಗಿ ಸರಾಸರಿ ಸ್ಕೋರ್ 2 (ಉತ್ತಮ) , ಆದರೆ DIFI( 50,3) 37µm ಮತ್ತು 40µm ಸ್ಕೋರ್ 5 (ವೈಫಲ್ಯ).

ನಾವು ನಿರೀಕ್ಷಿಸಿದಂತೆ, GSP ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಲ್ಲಿನ ಕ್ಲಂಪಿಂಗ್ ನಡವಳಿಕೆಯು ಬಳಸಿದ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಸರಾಸರಿ ವ್ಯಾಸದ DIFI(50,3) ಮೇಲೆ ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಅವಲಂಬಿತವಾಗಿರುತ್ತದೆ.ಇದಲ್ಲದೆ, ಎಲ್ಲಾ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನದ ನಿಯತಾಂಕಗಳಲ್ಲಿ DIFI (50,3) ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಪುಡಿಗಳ ವಿಸರ್ಜನೆಯ ಸಮಯವನ್ನು ಬಲವಾಗಿ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ ಎಂದು ಹಿಂದಿನ ಚರ್ಚೆಯಲ್ಲಿ ಉಲ್ಲೇಖಿಸಲಾಗಿದೆ.ಕಣದ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನದೊಂದಿಗೆ ಹೆಚ್ಚು ಪರಸ್ಪರ ಸಂಬಂಧ ಹೊಂದಿರುವ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ವಿಸರ್ಜನೆಯ ಸಮಯವು ಅಂತಿಮವಾಗಿ GSP ಯಲ್ಲಿ ಕ್ಲಂಪ್‌ಗಳ ರಚನೆಯ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ ಎಂದು ಇದು ಖಚಿತಪಡಿಸುತ್ತದೆ.ದೊಡ್ಡದಾದ DIFI (50,3) ಪುಡಿಯ ದೀರ್ಘ ವಿಸರ್ಜನೆಯ ಸಮಯವನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡುತ್ತದೆ, ಇದು ಒಟ್ಟುಗೂಡಿಸುವಿಕೆಯ ಅವಕಾಶವನ್ನು ಗಣನೀಯವಾಗಿ ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ.ಆದಾಗ್ಯೂ, ತುಂಬಾ ದೀರ್ಘವಾದ ಪುಡಿ ವಿಸರ್ಜನೆಯ ಸಮಯವು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಅನ್ನು ಸಿಂಪಡಿಸುವ ಉಪಕರಣದ ಸ್ಫೂರ್ತಿದಾಯಕ ಸಮಯದೊಳಗೆ ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಕರಗಿಸಲು ಕಷ್ಟವಾಗುತ್ತದೆ.

ಒಂದು ದೊಡ್ಡ ಸರಾಸರಿ ಫೈಬರ್ ವ್ಯಾಸದ DIFI (50,3) ಕಾರಣದಿಂದ ಆಪ್ಟಿಮೈಸ್ಡ್ ಡಿಸಲ್ಯೂಷನ್ ಪ್ರೊಫೈಲ್‌ನೊಂದಿಗೆ ಹೊಸ HEMC ಉತ್ಪನ್ನವು ಜಿಪ್ಸಮ್ ಪೌಡರ್‌ನ ಉತ್ತಮ ತೇವವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ (ಕ್ಲಂಪಿಂಗ್ ಮೌಲ್ಯಮಾಪನದಲ್ಲಿ ನೋಡಿದಂತೆ), ಆದರೆ ನೀರಿನ ಧಾರಣ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುವುದಿಲ್ಲ. ಉತ್ಪನ್ನ.EN 459-2 ರ ಪ್ರಕಾರ ಅಳತೆ ಮಾಡಲಾದ ನೀರಿನ ಧಾರಣವು 37µm ನಿಂದ 52µm ವರೆಗಿನ DIFI (50,3) ನೊಂದಿಗೆ ಅದೇ ಸ್ನಿಗ್ಧತೆಯ HEMC ಉತ್ಪನ್ನಗಳಿಂದ ಪ್ರತ್ಯೇಕಿಸಲಾಗುವುದಿಲ್ಲ.5 ನಿಮಿಷಗಳು ಮತ್ತು 60 ನಿಮಿಷಗಳ ನಂತರ ಎಲ್ಲಾ ಅಳತೆಗಳು ಗ್ರಾಫ್‌ನಲ್ಲಿ ತೋರಿಸಿರುವ ಅಗತ್ಯವಿರುವ ವ್ಯಾಪ್ತಿಯೊಳಗೆ ಬರುತ್ತವೆ.

ಆದಾಗ್ಯೂ, DIFI(50,3) ತುಂಬಾ ದೊಡ್ಡದಾದರೆ, ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಕಣಗಳು ಇನ್ನು ಮುಂದೆ ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಕರಗುವುದಿಲ್ಲ ಎಂದು ದೃಢಪಡಿಸಲಾಯಿತು.59 µM ಉತ್ಪನ್ನದ DIFI(50,3) ಅನ್ನು ಪರೀಕ್ಷಿಸಿದಾಗ ಇದು ಕಂಡುಬಂದಿದೆ.ಅದರ ನೀರಿನ ಧಾರಣ ಪರೀಕ್ಷೆಯ ಫಲಿತಾಂಶಗಳು 5 ನಿಮಿಷಗಳ ನಂತರ ಮತ್ತು ವಿಶೇಷವಾಗಿ 60 ನಿಮಿಷಗಳ ನಂತರ ಅಗತ್ಯವಿರುವ ಕನಿಷ್ಠವನ್ನು ಪೂರೈಸಲು ವಿಫಲವಾಗಿದೆ.

5. ಸಾರಾಂಶ

ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳು GSP ಸೂತ್ರೀಕರಣಗಳಲ್ಲಿ ಪ್ರಮುಖ ಸೇರ್ಪಡೆಗಳಾಗಿವೆ.ಇಲ್ಲಿ ಸಂಶೋಧನೆ ಮತ್ತು ಉತ್ಪನ್ನ ಅಭಿವೃದ್ಧಿ ಕಾರ್ಯವು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳ ಕಣಗಳ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನ ಮತ್ತು ಯಾಂತ್ರಿಕವಾಗಿ ಸಿಂಪಡಿಸಿದಾಗ ತೇವಗೊಳಿಸದ ಕ್ಲಂಪ್‌ಗಳ ರಚನೆಯ ನಡುವಿನ ಪರಸ್ಪರ ಸಂಬಂಧವನ್ನು ನೋಡುತ್ತದೆ.ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಪುಡಿಯ ವಿಸರ್ಜನೆಯ ಸಮಯವು ಜಿಪ್ಸಮ್ ಪುಡಿಯನ್ನು ನೀರಿನಿಂದ ತೇವಗೊಳಿಸುವುದರ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಆದ್ದರಿಂದ ಕ್ಲಂಪ್ಗಳ ರಚನೆಯ ಮೇಲೆ ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ ಎಂದು ಕೆಲಸದ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನದ ಊಹೆಯ ಮೇಲೆ ಇದು ಆಧರಿಸಿದೆ.

ವಿಸರ್ಜನೆಯ ಸಮಯವು ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ನ ಕಣ ರೂಪವಿಜ್ಞಾನವನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿರುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಡಿಜಿಟಲ್ ಇಮೇಜ್ ವಿಶ್ಲೇಷಣಾ ಸಾಧನಗಳನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಪಡೆಯಬಹುದು.GSP ಯಲ್ಲಿ, DIFI (50,3) ಯ ದೊಡ್ಡ ಸರಾಸರಿ ವ್ಯಾಸವನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್‌ಗಳು ಉತ್ತಮಗೊಳಿಸಿದ ಪುಡಿ ವಿಸರ್ಜನೆಯ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿವೆ, ಜಿಪ್ಸಮ್ ಕಣಗಳನ್ನು ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ತೇವಗೊಳಿಸಲು ನೀರು ಹೆಚ್ಚು ಸಮಯವನ್ನು ಅನುಮತಿಸುತ್ತದೆ, ಹೀಗಾಗಿ ಅತ್ಯುತ್ತಮವಾದ ವಿರೋಧಿ ಒಟ್ಟುಗೂಡಿಸುವಿಕೆಯನ್ನು ಸಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ.ಈ ರೀತಿಯ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಅನ್ನು ಹೊಸ ಉತ್ಪಾದನಾ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಬಳಸಿಕೊಂಡು ಉತ್ಪಾದಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಅದರ ಕಣದ ರೂಪವು ಉತ್ಪಾದನೆಗೆ ಕಚ್ಚಾ ವಸ್ತುಗಳ ಮೂಲ ಸ್ವರೂಪವನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿರುವುದಿಲ್ಲ.

ಸರಾಸರಿ ಫೈಬರ್ ವ್ಯಾಸದ DIFI (50,3) ಕ್ಲಂಪಿಂಗ್ ಮೇಲೆ ಬಹಳ ಮುಖ್ಯವಾದ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ, ಈ ಉತ್ಪನ್ನವನ್ನು ಆನ್-ಸೈಟ್ ಸಿಂಪರಣೆಗಾಗಿ ವಾಣಿಜ್ಯಿಕವಾಗಿ ಲಭ್ಯವಿರುವ ಯಂತ್ರ-ಸ್ಪ್ರೇಡ್ ಜಿಪ್ಸಮ್ ಬೇಸ್ಗೆ ಸೇರಿಸುವ ಮೂಲಕ ಪರಿಶೀಲಿಸಲಾಗಿದೆ.ಇದಲ್ಲದೆ, ಈ ಫೀಲ್ಡ್ ಸ್ಪ್ರೇ ಪರೀಕ್ಷೆಗಳು ನಮ್ಮ ಪ್ರಯೋಗಾಲಯದ ಫಲಿತಾಂಶಗಳನ್ನು ದೃಢಪಡಿಸಿದವು: ದೊಡ್ಡದಾದ DIFI (50,3) ನೊಂದಿಗೆ ಉತ್ತಮವಾಗಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸುವ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಉತ್ಪನ್ನಗಳು GSP ಆಂದೋಲನದ ಸಮಯದ ವಿಂಡೋದಲ್ಲಿ ಸಂಪೂರ್ಣವಾಗಿ ಕರಗುತ್ತವೆ.ಆದ್ದರಿಂದ, ಕಣದ ಆಕಾರವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಿದ ನಂತರ ಉತ್ತಮವಾದ ಆಂಟಿ-ಕೇಕಿಂಗ್ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಸೆಲ್ಯುಲೋಸ್ ಈಥರ್ ಉತ್ಪನ್ನವು ಇನ್ನೂ ಮೂಲ ನೀರಿನ ಧಾರಣ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ನಿರ್ವಹಿಸುತ್ತದೆ.