შემოღება
ჰიდროქსიპროპილმეთილცელულოზა (HPMC) არის ცელულოზის ეთერი, რომელიც ფართოდ გამოიყენება სხვადასხვა ინდუსტრიაში, როგორიცაა კვების, მედიცინა და მშენებლობა, როგორც გასქელება, ემულგატორი და სტაბილიზატორი. სამშენებლო ინდუსტრიაში HPMC ხშირად გამოიყენება ცემენტზე დამზადებული მასალების დანამატად სასურველი თვისებების მისაღწევად, როგორიცაა დამუშავებადობა, წყლის შეკავება და გამძლეობა. კვლევებმა აჩვენა, რომ ცემენტზე დაფუძნებულ მასალებში HPMC-ის დამატება აფერხებს ცემენტის ჰიდრატაციის პროცესს, რაც საბოლოოდ გავლენას ახდენს ცემენტზე დაფუძნებული მასალების სიმტკიცის განვითარებაზე.
HPMC-ის გავლენა ცემენტის ჰიდრატაციაზე
ცემენტის ჰიდრატაცია რთული ქიმიური რეაქციაა, რომელიც გულისხმობს წყლის რეაქციას მშრალ ცემენტის ნაწილაკებთან. ჰიდრატაციის პროცესის დროს ცემენტის ნაწილაკები რეაგირებენ წყალთან სხვადასხვა ჰიდრატაციის პროდუქტების წარმოქმნით, რაც ხელს უწყობს ცემენტზე დაფუძნებული მასალების სიმტკიცის გაუმჯობესებას. კვლევებმა აჩვენა, რომ ცემენტზე დაფუძნებულ მასალებში HPMC-ის დამატებამ შეიძლება შეაფერხოს ცემენტის ჰიდრატაცია, რითაც იცვლება სიმტკიცის განვითარების სიჩქარე და ხარისხი.
ცემენტის დაგვიანებული ჰიდრატაციის ერთ-ერთი მთავარი მიზეზი HPMC-ის წყლის შეკავების თვისებებია. HPMC არის ჰიდროფილური პოლიმერი, რომელიც შთანთქავს წყალს და შეშუპებულია გელის მსგავსი სტრუქტურის წარმოქმნით. როდესაც HPMC ემატება ცემენტზე დაფუძნებულ მასალებს, ის შთანთქავს წყალს ნარევიდან, რითაც ამცირებს ცემენტის ჰიდრატაციისთვის საჭირო თავისუფალ წყალს. ეს, თავის მხრივ, ანელებს ჰიდრატაციის პროცესს, რადგან ცემენტის წყალთან რეაქცია მოითხოვს წყლის ადეკვატურ მარაგს.
კიდევ ერთი ფაქტორი, რომელიც ხელს უწყობს ცემენტის დაგვიანებულ ჰიდრატაციას, არის HPMC-ის ადსორბცია ცემენტის ნაწილაკების ზედაპირზე. HPMC-ს აქვს მაღალი აფინურობა ცემენტის ნაწილაკების მიმართ თავისი პოლარობის გამო. მას შეუძლია ადსორბირება ცემენტის ნაწილაკების ზედაპირზე და შექმნას ფიზიკური ბარიერი წყლის მოლეკულებსა და ცემენტის ნაწილაკებს შორის კონტაქტის შესაზღუდად. ეს, თავის მხრივ, ანელებს ცემენტის წყალთან რეაქციას, რაც იწვევს ცემენტის დაგვიანებულ ჰიდრატაციას.
ცემენტზე დაფუძნებულ მასალებში HPMC-ის დამატება ასევე გავლენას მოახდენს ჰიდრატაციის პროდუქტების ბირთვის წარმოქმნისა და კრისტალების ზრდის პროცესზე. ცემენტის ჰიდრატაცია გულისხმობს სხვადასხვა კრისტალური ფაზის წარმოქმნას, როგორიცაა კალციუმის სილიკატის ჰიდრატი (CSH) და კალციუმის ჰიდროქსიდი (CH4). HPMC-ს შეუძლია შეაფერხოს ზოგიერთი ამ ფაზის ბირთვის წარმოქმნა და კრისტალების ზრდა, რაც კიდევ უფრო ანელებს ცემენტის ჰიდრატაციას.
ცემენტის ჰიდრატაციის შეფერხების მექანიზმი
HPMC-ის მიერ ცემენტის ჰიდრატაციის შეფერხების ძირითადი მექანიზმი ცემენტის ნაწილაკებსა და წყალს შორის ფიზიკური ბარიერის ფორმირებაა. როდესაც HPMC წყალში იხსნება, ის წარმოქმნის გელის მსგავს მატრიცას, რომელსაც შეუძლია ცემენტის ნაწილაკების კაფსულირება და ცემენტის ჰიდრატაციისთვის თავისუფალი წყლის ხელმისაწვდომობის შემცირება. ეს, თავის მხრივ, ანელებს ცემენტის წყალთან რეაქციას, რაც იწვევს ცემენტზე დაფუძნებული მასალების სიმტკიცის განვითარების შეფერხებას.
კიდევ ერთი მექანიზმია HPMC-ის ადსორბცია ცემენტის ნაწილაკების ზედაპირზე. HPMC-ს თავისი პოლარობის გამო აქვს მაღალი აფინურობა ცემენტის ნაწილაკების მიმართ. მას შეუძლია ადსორბცია ცემენტის ნაწილაკების ზედაპირზე და შექმნას ფიზიკური ბარიერი წყლის მოლეკულებსა და ცემენტის ნაწილაკებს შორის კონტაქტის შესაზღუდად. ეს კიდევ უფრო ანელებს ცემენტის წყალთან რეაქციას.
HPMC-ს ასევე შეუძლია ურთიერთქმედება ცემენტის სხვადასხვა კომპონენტთან, როგორიცაა კალციუმის იონები, რითაც გავლენას ახდენს ჰიდრატაციის პროდუქტების ბირთვის წარმოქმნისა და კრისტალების ზრდის პროცესებზე. HPMC-ს შეუძლია შეაფერხოს ამ ფაზების ზოგიერთი ნაწილის ბირთვის წარმოქმნა და კრისტალების ზრდა, რაც კიდევ უფრო ანელებს ცემენტის ჰიდრატაციას.
დასკვნაში
ცემენტის მასალებში HPMC-ის დამატებამ შეიძლება შეაფერხოს ცემენტის ჰიდრატაცია, რითაც იცვლება სიმტკიცის განვითარების სიჩქარე და ხარისხი. ცემენტის ჰიდრატაციის შეფერხების მექანიზმი ძირითადად განპირობებულია ცემენტის ნაწილაკებსა და წყალს შორის ფიზიკური ბარიერის ფორმირებით, რომელიც ადსორბირდება ცემენტის ნაწილაკების ზედაპირზე და აფერხებს ჰიდრატაციის პროდუქტების ბირთვის წარმოქმნისა და კრისტალების ზრდის პროცესს. იმ მექანიზმების გაგება, რომლითაც HPMC აფერხებს ცემენტის ჰიდრატაციას, საშუალებას მოგვცემს ოპტიმიზაცია გავუკეთოთ HPMC-ის გამოყენებას ცემენტის მასალებში, რათა მივიღოთ სასურველი თვისებები ცემენტის მასალების სიმტკიცის განვითარების შენარჩუნებით.
გამოქვეყნების დრო: 2023 წლის 24 ოქტომბერი